Horno de vacío
Horno de Vacío Vertical 1100C de Alta Temperatura, Cámara de Cuarzo de 8 Pulgadas, Sistema de Brida Refrigerada por Agua
Número de artículo: TU-QF02
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Descripción del Producto
Este sistema vertical sellado al vacío de alta temperatura representa la cúspide del procesamiento térmico para la ciencia de materiales y la investigación de semiconductores. Diseñado para facilitar procesos precisos de recocido y calcinación, esta unidad presenta una orientación vertical especializada que optimiza el espacio al tiempo que proporciona un entorno térmico uniforme para sustratos más grandes. El equipo está construido alrededor de una robusta cámara de cuarzo capaz de alcanzar temperaturas de funcionamiento de hasta 1100°C a presión ambiente, lo que la convierte en una herramienta esencial para laboratorios centrados en el desarrollo de materiales de alta pureza y componentes electrónicos avanzados.
El sistema está diseñado específicamente para admitir obleas semiconductoras de hasta 8 pulgadas de diámetro, ofreciendo una plataforma versátil tanto para el procesamiento en entorno de vacío como para experimentos en atmósfera de gas controlada. Al integrar una sofisticada brida de sellado de acero inoxidable con refrigeración por agua integrada, el sistema mantiene la integridad estructural y la longevidad del sello incluso durante ciclos prolongados de alto calor. Este equipo es la opción preferida para centros de I+D industrial e instituciones académicas que requieren una solución de procesamiento térmico confiable, repetible y de gran capacidad para sustratos delicados.
Construida para ofrecer fiabilidad en condiciones industriales exigentes, esta unidad de procesamiento térmico utiliza cable resistivo de alta calidad y materiales refractarios avanzados para garantizar un rendimiento constante. Cada componente, desde el controlador digital certificado por NRTL hasta el mecanismo de sellado de doble junta tórica de silicona, se selecciona para brindar a los equipos de compras e ingenieros líderes confianza en la estabilidad operativa a largo plazo del sistema. Esta unidad ofrece la robustez necesaria para entornos de investigación 24/7, donde la precisión y el tiempo de actividad son métricas críticas para el éxito.
Características principales
- Cámara de cuarzo de gran capacidad: El sistema cuenta con un tubo de cuarzo GE214 de gran diámetro con un diámetro exterior de 8 pulgadas, dimensionado específicamente para procesar obleas semiconductoras y muestras de materiales en lotes grandes con una claridad y pureza inigualables.
- Brida de sellado avanzada refrigerada por agua: Una camisa de refrigeración por agua integrada protege el conjunto de sellado al vacío de la degradación térmica, permitiendo que la brida de acero inoxidable mantenga un sellado hermético a temperaturas superiores a 1100°C sin derretir las juntas tóricas de silicona.
- Control de temperatura PID de precisión: El controlador digital certificado por NRTL ofrece 30 segmentos programables para rampas, enfriamiento y mantenimiento, garantizando una precisión de ±1°C para perfiles térmicos sensibles requeridos en la fabricación de semiconductores.
- Rendimiento superior de vacío: Diseñada para funcionar sin problemas con estaciones de bombeo de alto vacío, esta unidad puede alcanzar niveles de vacío tan profundos como 10^-5 Torr al utilizar una turbobomba, esencial para tareas de calcinación y recocido sensibles al oxígeno.
- Diseño robusto del elemento calefactor: Utilizando alambre resistivo Ni-Cr-Al de alta calidad, el sistema proporciona velocidades de calentamiento rápidas de hasta 20°C por minuto, manteniendo una excelente durabilidad en ciclos térmicos repetitivos.
- Seguridad y alarmas integradas: El equipo incluye alarmas integradas de sobretemperatura y de fallo del termopar, proporcionando protección automática tanto para el horno como para los valiosos materiales procesados en su interior.
- Gestión flexible de la atmósfera: Equipado con válvulas de aguja de alta precisión y múltiples puertos de entrada/salida de gas, el sistema permite la introducción precisa de gases inertes o reactivos durante el proceso de calentamiento.
- Opciones de monitoreo escalables: La unidad incluye de serie un manómetro mecánico de vacío, con opciones para manómetros digitales de vacío independientes del gas y puertos de comunicación para PC para registro de datos en tiempo real y monitoreo remoto.
- Capacidad de carga pesada: Diseñada para soportar hasta 40 kg de peso de material, la arquitectura de cámara vertical está reforzada para manejar cargas de muestras de grado industrial sin comprometer la integridad estructural.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio Clave |
|---|---|---|
| Recocido de obleas semiconductoras | Procesamiento de obleas de hasta 8 pulgadas para reparar daños en la red cristalina después de la implantación iónica. | El control preciso de ±1°C garantiza características eléctricas uniformes en toda la superficie de la oblea. |
| Calcinación de materiales aeroespaciales | Oxidación y calcinación a alta temperatura de compuestos de matriz cerámica bajo vacío. | Mantiene una alta pureza mediante entornos libres de oxígeno, evitando la contaminación de aleaciones críticas. |
| Investigación de deposición de películas delgadas | Preparación de sustratos y tratamiento térmico posterior a la deposición para células solares avanzadas. | La gran cámara de 190 mm de diámetro interior acomoda múltiples sustratos simultáneamente para pruebas de alto rendimiento. |
| I+D de baterías de estado sólido | Sinterización de electrolitos cerámicos y materiales de ánodo en atmósferas gaseosas controladas. | Los sistemas fiables de entrada/salida de gas permiten un control exacto de la composición química durante la sinterización. |
| Envejecimiento de componentes electrónicos | Pruebas de esfuerzo de sensores y módulos electrónicos de alta potencia bajo condiciones térmicas extremas. | La orientación vertical permite configuraciones especializadas de sujeción y fijación que minimizan la deformación de los componentes. |
| Desgasificación al vacío | Eliminación de gases atrapados en vidrios especiales o polvos metálicos antes de la fundición. | La capacidad de alto vacío (10^-5 Torr) garantiza la eliminación completa de volátiles para una densidad de material superior. |
Especificaciones Técnicas
| Especificación | Detalles para TU-QF02 |
|---|---|
| Voltaje | Monofásico 208 - 240 VAC / 50/60Hz |
| Potencia máxima | 3 KW (disyuntor de 25 A instalado) |
| Temperatura máxima de trabajo (ambiente) | < 1100°C |
| Temperatura máxima de trabajo (vacío) | < 1000°C |
| Temperatura máxima opcional | 1150°C (con tubo de cuarzo GE214 mejorado) |
| Velocidad de calentamiento | Recomendada: 10°C/ min; Máx.: < 20°C/ min |
| Elementos calefactores | Alambre resistivo Ni-Cr-Al |
| Dimensiones del tubo de cuarzo | Ø200 × Ø190 × H425 mm |
| Capacidad máxima de carga | 40 Kg |
| Área de calentamiento efectiva | Ø240 × H245 mm |
| Conjunto de brida | Acero inoxidable con juntas tóricas dobles de silicona de alta temperatura y camisa de refrigeración por agua |
| Gestión de gas | Una entrada de gas de 1/4" y una salida con válvulas de aguja |
| Puerto de vacío | Puerto KF25 integrado para conexión de bomba |
| Nivel de vacío (bomba mecánica) | 10^-2 Torr en 30 minutos (sin bloque térmico) |
| Nivel de vacío (turbobomba) | 10^-5 Torr en 30 minutos (a 900°C con bloque térmico de cuarzo) |
| Controlador de temperatura | Controlador digital PID de 30 segmentos, certificado por NRTL |
| Precisión de temperatura | ± 1 ºC (estándar); ± 0.1 ºC (opción Eurotherm) |
| Manómetro de vacío | Manómetro mecánico (-0.1 a 0.15 Mpa); manómetro digital opcional |
| Cumplimiento de normas | Certificación CE (NRTL/CSA disponible bajo pedido) |
| Requisito de refrigeración | 16 L/min de flujo de agua para protección de la brida |
| Comunicación | Puerto de comunicación DB9 para PC incluido de serie |
Por qué elegir TU-QF02
- Ingeniería de precisión para gran escala: A diferencia de los hornos de laboratorio estándar, este sistema proporciona una zona de procesamiento masiva de 8 pulgadas de diámetro, lo que permite la transición directa de I+D con muestras pequeñas a producción a escala piloto sin cambiar los parámetros térmicos.
- Gestión térmica superior: La integración de un sistema de brida refrigerada por agua garantiza que, incluso a temperaturas máximas, la integridad del sellado permanezca intacta, prolongando la vida útil de los consumibles y reduciendo significativamente los costos de mantenimiento.
- Arquitectura de vacío adaptable: Ya sea que necesite niveles básicos de vacío mecánico o entornos de ultra alto vacío mediante bombas turbomoleculares, la interfaz flexible KF25 del sistema y las válvulas de acero inoxidable de alta calidad respaldan sus necesidades específicas de proceso.
- Seguridad y fiabilidad certificadas: Con controladores certificados por NRTL y cumplimiento CE, este equipo cumple con los estrictos estándares de seguridad y calidad requeridos por la fabricación industrial moderna y las instalaciones de investigación de alto nivel.
- Opciones de control personalizables: Desde controladores Eurotherm de alta precisión hasta estaciones digitales de mezcla de gases, ofrecemos la modularidad de hardware necesaria para adaptar el sistema a protocolos especializados de procesamiento de materiales.
Nuestro equipo técnico está listo para ayudarle con una configuración personalizada o una cotización formal para sus instalaciones. Contáctenos ahora para hablar sobre cómo este sistema de vacío vertical puede mejorar sus capacidades de procesamiento térmico.
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