Horno de tubo de alúmina de tres zonas con bridas de vacío, sistema CVD de gradiente térmico de alta temperatura de 1700 °C

Horno de tubo

Horno de tubo de alúmina de tres zonas con bridas de vacío, sistema CVD de gradiente térmico de alta temperatura de 1700 °C

Número de artículo: TU-79

Temperatura Máxima de Operación: 1700°C (Zona Central) / 1400°C (Zonas Laterales) Configuración de Zonas de Calentamiento: Tres Zonas Independientes, Longitud Total 25" (630mm) Capacidad de Vacío: Hasta 10-4 Torr con Bomba Turbo
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Descripción general del producto

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Este horno de tubo de tres zonas de alto rendimiento representa la cumbre en el procesamiento térmico de laboratorio, diseñado específicamente para investigadores e ingenieros industriales que requieren un control preciso sobre perfiles de temperatura complejos. Al integrar tres zonas de calentamiento independientes dentro de un entorno de tubo de alúmina de alta pureza, este sistema permite la creación de gradientes térmicos sofisticados esenciales para el crecimiento cristalino, la deposición química de vapor (CVD) y la síntesis de materiales avanzados. El valor principal del equipo reside en su capacidad para mantener temperaturas dispares a lo largo de un espacio de trabajo continuo, proporcionando una plataforma versátil tanto para tratamientos térmicos estándar como para protocolos de investigación altamente especializados.

Los casos de uso principales para esta unidad abarcan la investigación en electrónica, aeroespacial y energía, donde los materiales funcionales deben prepararse bajo condiciones atmosféricas estrictas. La arquitectura de tres zonas es particularmente efectiva para el crecimiento de películas epitaxiales y la síntesis de nanofibras, donde la evaporación del precursor y la deposición del sustrato deben ocurrir a temperaturas diferentes y mantenidas con precisión. Las industrias objetivo incluyen la fabricación de semiconductores, el desarrollo de cerámicas avanzadas e instalaciones de investigación metalúrgica que exigen una precisión y repetibilidad sin concesiones en sus ciclos térmicos.

Diseñado para entornos industriales y de laboratorio exigentes, el sistema cuenta con una robusta carcasa de acero de doble capa y refrigeración por aire avanzada para garantizar una cubierta exterior segura y de baja temperatura incluso durante operaciones prolongadas a alta temperatura. La fiabilidad está integrada en cada componente, desde el aislamiento de alúmina fibrosa de alta pureza hasta la configuración de calentamiento de doble elemento que equilibra los requisitos técnicos de calor extremo en el centro con la estabilidad controlada en la periferia. Este equipo ofrece la consistencia necesaria para experimentos de larga duración, brindando a los usuarios la confianza de que sus datos críticos y resultados materiales están protegidos por una ingeniería térmica superior.

Características principales

  • Control de temperatura independiente de tres zonas: El sistema utiliza tres microprocesadores digitales independientes para gestionar cada zona por separado, lo que permite la creación de gradientes térmicos precisos. Esta capacidad es fundamental para procesos en los que los precursores deben vaporizarse en una zona y depositarse en otra a una temperatura diferente.
  • Arquitectura de calentamiento de doble elemento: La zona central funciona con elementos calefactores de disiliciuro de molibdeno (MoSi2) Super-1800 que alcanzan los 1700 °C, mientras que las dos zonas laterales utilizan elementos de carburo de silicio (SiC) para un funcionamiento estable hasta 1400 °C. Este diseño híbrido optimiza la eficiencia energética y el rendimiento de calentamiento en toda la longitud calentada de 25 pulgadas.
  • Lógica de control PID avanzada: Cada uno de los tres controladores cuenta con 30 segmentos programables, ofreciendo capacidades de autoajuste y protección sofisticada para termopares sobrecalentados o rotos. Esto garantiza tasas de calentamiento lineales y tiempos de mantenimiento estables, minimizando el choque térmico en muestras delicadas.
  • Entorno de tubo de alúmina de alta pureza: Construido con un tubo de alúmina de pureza del 99,8 %, el equipo proporciona una atmósfera excepcionalmente inerte para el procesamiento. Este material de alta densidad evita la contaminación y resiste el ataque químico de precursores agresivos durante las operaciones de CVD a alta temperatura.
  • Integridad atmosférica y de vacío superior: Equipado con bridas de sellado al vacío de acero inoxidable que incluyen válvulas integradas y medidores de presión, esta unidad puede alcanzar niveles de vacío de hasta 10-4 Torr cuando se combina con una turbobomba. El diseño de doble junta garantiza un rendimiento hermético para el procesamiento bajo gases inertes o reductores.
  • Aislamiento térmico de ingeniería: El horno utiliza aislamiento de alúmina fibrosa de alta pureza, que ofrece baja conductividad térmica y bajo almacenamiento de calor. Este diseño permite ciclos de calentamiento y enfriamiento más rápidos, al tiempo que reduce significativamente el consumo de energía necesario para mantener la estabilidad a alta temperatura.
  • Sistemas robustos de seguridad y refrigeración: Una caja de acero de doble capa con dos ventiladores de refrigeración integrados mantiene una temperatura superficial externa segura. Este diseño protege al personal de laboratorio y los componentes electrónicos internos, extendiendo significativamente la vida útil operativa de los sistemas de control.
  • Integración de termopares multizona: El sistema emplea un termopar tipo B para la zona central de alta temperatura y dos termopares tipo S para las zonas laterales. Esta configuración proporciona los niveles más altos de precisión de medición y retroalimentación receptiva para los controladores PID.
  • Opciones de suministro de gas personalizables: Los accesorios de manguera dentados estándar se pueden actualizar a adaptadores KF25 o accesorios de tubo Swagelok, lo que permite una integración perfecta con sistemas de alto vacío o colectores de suministro de gas de alta presión para el crecimiento avanzado de películas delgadas.

Aplicaciones

Aplicación Descripción Beneficio clave
Crecimiento de películas epitaxiales (CVD) Vaporización de precursores en una zona ascendente y deposición en un sustrato en la zona central de alta temperatura. Control de precisión sobre el espesor de la película y la estructura molecular.
Síntesis de nanofibras Facilita el crecimiento de óxido de galio (Ga2O3) donde la aleación del catalizador y el crecimiento axial requieren etapas térmicas distintas. Regularidad morfológica optimizada y propiedades electrónicas mejoradas.
Sinterización por gradiente térmico Sometimiento de muestras cerámicas o metálicas a variaciones de temperatura controladas a lo largo de su longitud. Permite el estudio de transiciones de fase y cinética de difusión en una sola ejecución.
Envejecimiento de componentes electrónicos Prueba de durabilidad de materiales semiconductores de alta potencia bajo calor extremo y localizado. Pruebas de alta fiabilidad que simulan entornos de alto estrés del mundo real.
Calcinación de polvos Procesamiento de catalizadores químicos o materiales de baterías bajo vacío de alta pureza o gas inerte. Evita la oxidación y garantiza productos finales de alta pureza para aplicaciones de almacenamiento de energía.
Recocido y templado Alivio de tensiones en aleaciones metálicas de precisión en un entorno controlado para mejorar las propiedades mecánicas. Elimina las tensiones internas sin comprometer el acabado superficial o la pureza.
Mapeo de diagramas de fase Determinación rápida de las propiedades de los materiales dependientes de la temperatura utilizando la arquitectura flexible de 3 zonas. Reducción significativa del tiempo de I+D para el descubrimiento de nuevos materiales funcionales.

Especificaciones técnicas

Característica Detalles de la especificación (TU-79)
Serie del modelo del producto TU-79
Voltaje CA 208-240V Monofásico, 50/60 Hz
Consumo de energía 10 KW (Requiere disyuntor de aire de 75A)
Características de la Zona 1 7,5" (190 mm) de longitud; 4 elementos de SiC; 400 - 1400 °C (hasta 1500 °C por <1h)
Características de la Zona 2 (Centro) 10,0" (250 mm) de longitud; 6 elementos de MoSi2; 800 - 1700 °C
Características de la Zona 3 7,5" (190 mm) de longitud; 4 elementos de SiC; 400 - 1400 °C (hasta 1500 °C por <1h)
Longitud total de la zona de calentamiento 25" (630 mm) en total, incluyendo dos separadores refractarios
Zona de temperatura constante 200 mm de longitud con precisión de ± 1 °C (con todos los controladores sincronizados)
Tasa máxima de calentamiento ≤ 10 °C/min (zonas laterales); ≤ 5 °C/min (zona central)
Material y tamaño del tubo Alúmina de pureza del 99,8 %; Opciones de DE: 60 mm, 80 mm o 100 mm; Longitud 1200 mm
Sellado al vacío Bridas de acero inoxidable con válvulas y medidores; Doble junta incluida
Límite de presión de vacío Hasta 10-4 Torr con turbobomba (Uso limitado a <1500 °C para vacío)
Controladores de temperatura Tres controladores PID digitales, 30 segmentos, autoajuste, precisión de ± 1 °C
Tipos de termopar Un Tipo B (Centro), Dos Tipo S (Laterales); Longitud de inserción de 210 mm
Seguridad y cumplimiento Certificación CE; NRTL/CSA disponible bajo pedido
Carcasa Acero de doble capa con dos ventiladores de refrigeración de alta velocidad

Por qué elegirnos

  • Ingeniería térmica sofisticada: Al utilizar una combinación única de elementos calefactores de MoSi2 y SiC, este horno proporciona un rango operativo más amplio y gradientes térmicos más estables que los sistemas estándar de un solo elemento.
  • Control de atmósfera inigualable: La inclusión de tubos de alúmina de alta pureza y bridas de vacío de acero inoxidable de precisión garantiza un entorno libre de contaminantes para los procesos más sensibles de deposición química de vapor y semiconductores.
  • Fiabilidad de grado industrial: Con una construcción de acero de doble pared y componentes electrónicos con certificación CE, este sistema está diseñado para soportar los rigores del trabajo continuo de I+D a alta temperatura sin degradación.
  • Precisión y programabilidad: Cada una de las tres zonas es gestionada por controladores PID independientes de 30 segmentos, lo que permite recetas complejas de múltiples etapas que pueden sincronizarse o programarse para deltas térmicos distintos.
  • Personalizable y preparado para el futuro: THERMUNITS ofrece amplias actualizaciones opcionales, que incluyen controladores de alta precisión de fabricación europea, gestión de software basada en LabVIEW y accesorios de suministro de gas especializados para satisfacer los requisitos de investigación en evolución.

Nuestro equipo de ingeniería técnica está listo para ayudarlo a configurar la instalación de horno ideal para sus necesidades de investigación específicas; contáctenos hoy para obtener una cotización detallada o para discutir modificaciones personalizadas del sistema.

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