Horno de tubo deslizante de doble zona de temperatura de 1200 °C para el crecimiento de materiales 2D y síntesis TCVD

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Horno de tubo deslizante de doble zona de temperatura de 1200 °C para el crecimiento de materiales 2D y síntesis TCVD

Número de artículo: TU-RT10

Temperatura máxima: 1200°C Velocidad de enfriamiento: 100°C/min mediante mecanismo deslizante Diámetro del tubo de procesamiento: 80 mm
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Descripción del producto

Imagen del producto 1

Este sistema de doble horno de alto rendimiento está diseñado específicamente para la síntesis de materiales 2D avanzados y la deposición de películas delgadas complejas. Al integrar dos unidades de horno independientes en un solo tubo de procesamiento de 80 mm, el equipo permite la creación de gradientes de temperatura precisos y entornos térmicos distintos para la sublimación y la deposición. Un horno está diseñado como una unidad estacionaria, mientras que el otro cuenta con un mecanismo deslizante de alta velocidad, lo que permite a los investigadores e ingenieros industriales trasladar muestras entre zonas de alta temperatura y condiciones ambientales con una velocidad y repetibilidad excepcionales.

El sistema es ideal para procesos de deposición química de vapor térmica (TCVD), particularmente en la producción de monocapas de dicalcogenuros de metales de transición (TMDC) 2D y microcristales de perovskita avanzados. Al separar la zona de evaporación del precursor de la zona de crecimiento, este equipo proporciona un control inigualable sobre la presión de vapor y las relaciones estequiométricas. La versatilidad de la configuración de doble zona lo convierte en una herramienta esencial para laboratorios de ciencia de materiales e instalaciones de I+D de alta tecnología centradas en grafeno, nanotubos de carbono y películas delgadas semiconductoras.

Diseñado para un uso industrial exigente, el equipo prioriza la integridad estructural y la estabilidad térmica. La combinación de cuarzo fundido de alta pureza, elementos calefactores diseñados con precisión y un robusto sistema de rieles deslizantes lineales garantiza que cada ciclo sea consistente y fiable. Esta unidad ofrece la durabilidad necesaria para el funcionamiento continuo bajo condiciones de vacío o atmósfera controlada, brindando a los equipos de adquisiciones y a los líderes de investigación total confianza en su inversión de capital a largo plazo.

Características principales

  • Control independiente de doble zona: Este sistema utiliza dos unidades de calentamiento separadas, cada una equipada con su propio controlador de temperatura PID dedicado, lo que permite temperaturas de sublimación y deposición distintas sin interferencia térmica.
  • Procesamiento térmico rápido mediante mecanismo deslizante: El horno del lado derecho está montado sobre un sistema de rieles deslizantes lineales dobles, lo que le permite alejarse de la zona de crecimiento para lograr velocidades de enfriamiento ultrarrápidas de aproximadamente 100 °C/min, crucial para fases de enfriamiento rápido (quenching) y para preservar la morfología del material.
  • Movimiento lineal de precisión: El horno deslizante es accionado por un motor eléctrico de 200 W con controles manuales de velocidad y dirección, soportado por rieles de acero cromado para un movimiento suave y sin vibraciones durante las etapas críticas de crecimiento.
  • Horno estacionario avanzado multizona: La unidad estacionaria del lado izquierdo presenta una configuración de tres zonas (152,4 mm cada una), lo que proporciona una zona de temperatura constante extendida y permite el ajuste fino del perfil térmico a través de la fuente del precursor.
  • Entorno de procesamiento de cuarzo de alta pureza: El tubo de cuarzo fundido de 80 mm de diámetro proporciona un entorno limpio y químicamente inerte para reacciones sensibles, admitiendo caudales de hasta 1000 sccm y presiones de hasta 0,4 bar.
  • Regulación térmica sofisticada: Equipado con controladores FA-YD518P-AG, el sistema ofrece 30 segmentos programables para rampa, mantenimiento y enfriamiento, con funciones de autoajuste integradas para mantener una precisión de ±1 °C.
  • Tecnología de calentamiento duradera: Los elementos calefactores de aleación Fe-Cr-Al de alta calidad, dopados con molibdeno, proporcionan una temperatura de trabajo máxima de 1200 °C y una excelente resistencia a la oxidación para una vida útil prolongada.
  • Capacidades de integración de vacío: Las bridas de vacío de acero inoxidable con medidores integrados son estándar, lo que permite al sistema alcanzar niveles de vacío de hasta 10E-5 torr cuando se combina con una bomba molecular.
  • Monitoreo de seguridad integral: El sistema incluye alarmas integradas de sobretemperatura y fallo de termopar, garantizando la seguridad del equipo y del operador durante los ciclos de alta temperatura.

Aplicaciones

Aplicación Descripción Beneficio clave
Crecimiento de monocapas TMDC Síntesis de MoS2, WS2 y otros dicalcogenuros de metales de transición. Control preciso de las temperaturas de sublimación frente a las de deposición para monocapas de alta calidad.
Síntesis de perovskita Deposición de vapor de CsPbBr3 y otras perovskitas de haluro. El control independiente de zonas mantiene relaciones estequiométricas ideales mediante la gestión de la presión de vapor.
Fabricación de grafeno TCVD a alta temperatura sobre catalizadores metálicos utilizando precursores de carbono. El horno deslizante permite un enfriamiento rápido para controlar el tamaño de grano y las capas.
CVD de nanotubos de carbono (CNT) Crecimiento mediado por catalizador de nanotubos de pared simple o múltiple. El suministro de gas de alto flujo y las zonas de temperatura constantes garantizan una alineación uniforme.
Epitaxia en fase de vapor Crecimiento controlado de películas delgadas sobre sustratos cristalinos. Interferencia térmica mínima entre los precursores y el sustrato de crecimiento.
Dopaje de semiconductores Difusión de dopantes en obleas semiconductoras bajo atmósferas controladas. El control PID de precisión garantiza perfiles de dopaje repetibles en múltiples lotes.
Síntesis de nanocables Crecimiento Vapor-Líquido-Sólido (VLS) de nanocables semiconductores y de óxido. El enfriamiento rápido evita el crecimiento secundario no deseado o las transformaciones de fase.

Especificaciones técnicas

Categoría Especificación Valor del parámetro (TU-RT10)
Referencia del modelo Sistema TU-RT10 Configuración deslizante de doble horno
Horno deslizante (derecha) Modelo de horno OTF-1200X de zona única
Distancia de deslizamiento 300 mm
Zona de calentamiento total 440 mm
Zona de temperatura constante 150 mm (±1 °C)
Temperatura máxima 1200 °C (<1 hora); 1100 °C (Continuo)
Horno estacionario (izquierda) Modelo de horno OTF-1200X-III-C de tres zonas
Longitudes de zona de calentamiento 152,4 mm + 152,4 mm + 152,4 mm (Total 450 mm)
Zona de temperatura constante 200 mm (±1 °C)
Temperatura máxima 1200 °C (<1 hora); 1100 °C (Continuo)
Tubo de procesamiento Material Cuarzo fundido de alta pureza
Dimensiones 80 mm D.E. x 72 mm D.I. x 1800 mm de longitud
Presión máxima 0,4 bar (5,8 psi)
Caudal máximo 1000 sccm
Elementos calefactores Tipo Aleación Fe-Cr-Al dopada con Mo
Control de temperatura Precisión ±1 ºC (Eurotherm opcional ±0,1 °C)
Programabilidad 30 segmentos (Rampa, Enfriamiento, Mantenimiento)
Termopar Tipo K (cuatro incluidos)
Mecanismo deslizante Rieles Rieles deslizantes lineales dobles (acero cromado)
Motor 208 – 240 VAC monofásico, 200 W
Requisitos de energía Horno deslizante AC 208-240V monofásico, 3 kW
Horno estacionario AC 208-240V monofásico, 4 kW
Vacío y gas Bridas de vacío Acero inoxidable con medidor de vacío
Vacío máximo 10E-5 torr (con bomba molecular)
Cumplimiento Estándares Certificación CE (NRTL/CSA disponible)

¿Por qué elegir el TU-RT10?

  • Flexibilidad térmica superior: La combinación única de un horno estacionario de tres zonas y un horno deslizante de una zona proporciona la plataforma más versátil para procesos CVD complejos disponible en el mercado.
  • Fiabilidad probada: Construido con elementos calefactores de aleación premium y un robusto sistema mecánico deslizante, este equipo está diseñado para la longevidad y un rendimiento constante en entornos de I+D intensivos.
  • Ingeniería de precisión: Con una precisión de temperatura mantenida dentro de ±1 °C y componentes de movimiento lineal de alta calidad, los usuarios pueden lograr resultados altamente repetibles para la síntesis de materiales sensibles.
  • Escalable y personalizable: El diseño modular permite actualizaciones a controladores Eurotherm para una precisión aún mayor y la integración con sistemas de suministro de gas multicanal para satisfacer necesidades de investigación específicas.
  • Cumplimiento integral: Nuestros sistemas cuentan con certificación CE y están construidos según estándares internacionales de seguridad, lo que garantiza una fácil integración en cualquier laboratorio profesional o instalación industrial.

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