Horno de tubo
Horno de Tubo de Doble Zona 1100°C con Tubo de Cuarzo de 11 Pulgadas y Bridas de Vacío para Procesamiento de Objetivos de 8 Pulgadas
Número de artículo: TU-32
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Descripción General del Producto
Este horno de tubo de doble zona de alto rendimiento es un sofisticado sistema de procesamiento térmico diseñado para investigación avanzada de materiales y I+D industrial. Gracias a su tubo de cuarzo fundido con un diámetro exterior excepcionalmente grande de 11 pulgadas, el equipo proporciona un amplio entorno de calefacción adecuado para muestras de gran escala y obleas semiconductoras de hasta 8 pulgadas de diámetro. La configuración de doble zona permite crear gradientes térmicos precisos o una zona de temperatura constante más amplia, ofreciendo a los investigadores una flexibilidad sin precedentes para gestionar perfiles complejos de tratamiento térmico. Al integrar aislamiento fibroso de alúmina de alta pureza, este sistema garantiza la máxima eficiencia energética y tiempos de respuesta térmica rápidos.
El equipo está diseñado específicamente para aplicaciones de alta pureza, que incluyen el sinterizado de nuevas muestras de materiales y el recocido de obleas semiconductoras en vacío o atmósferas de gas controladas. Los sectores objetivo abarcan desde la fabricación de semiconductores y la metalurgia hasta la nanotecnología y la investigación de energías renovables. La cámara de procesamiento de gran diámetro permite un mayor rendimiento y la incorporación de crisoles y soportes especializados, lo que lo convierte en una opción ideal para laboratorios que pasan de la experimentación a pequeña escala al desarrollo a escala piloto. Sus capacidades robustas de vacío y sus funciones de manejo de gases facilitan un control preciso del entorno químico durante las etapas críticas de procesamiento.
La fiabilidad y la consistencia son las señas de identidad del diseño de esta unidad. Construido para soportar condiciones industriales exigentes, el sistema utiliza controladores digitales de alta precisión y elementos de calefacción de alambre de resistencia NiCrAl duraderos para mantener un rendimiento estable durante periodos prolongados. La inclusión de bridas de acero inoxidable enfriadas por agua protege la integridad de los sellos de vacío, garantizando un entorno sin fugas incluso durante ciclos a alta temperatura. Este compromiso con la excelencia en ingeniería asegura que cada proceso, desde la calcinación básica hasta la deposición química de vapor avanzada, se realice con resultados repetibles y de alta precisión en los que los investigadores profesionales pueden confiar.
Características Principales
- Control Preciso de Temperatura de Doble Zona: El sistema cuenta con dos zonas de calefacción controladas independientemente, cada una de 300 mm de longitud, gestionadas por controladores digitales PID de alta precisión. Esto permite establecer gradientes térmicos estables o una zona de temperatura constante combinada de 300 mm con una precisión de ±1 °C, esencial para procesos como el crecimiento de nanocintas TMD.
- Cámara de Cuarzo Extragrande de 11 Pulgadas: Equipado con un tubo de cuarzo fundido de 279 mm de diámetro exterior, este horno aloja muestras de gran formato, incluidas las obleas semiconductoras estándar de 8 pulgadas. El material de cuarzo de alta pureza ofrece una excelente resistencia al choque térmico e inercia química, garantizando un entorno libre de contaminantes.
- Bridas de Vacío Abisagradas Avanzadas: Las bridas de vacío de acero inoxidable tienen un diseño abisagrado para facilitar la carga y descarga de muestras sin esfuerzo. Los canales de enfriamiento por agua integrados en la estructura de brida de doble capa protegen eficazmente los sellos de junta tórica, manteniendo la integridad del vacío durante el funcionamiento sostenido a temperaturas de hasta 1100 °C.
- Aislamiento Térmico de Alta Eficiencia: Al utilizar aislamiento fibroso de alúmina de alta pureza, el equipo minimiza la pérdida de calor y reduce el consumo de energía. Este aislamiento ligero de alto rendimiento también permite velocidades de calentamiento y enfriamiento más rápidas, optimizando el tiempo de ciclo general para el rendimiento del laboratorio.
- Elementos de Calefacción Robustos y Seguridad: Los elementos de calefacción de alambre de resistencia NiCrAl de larga duración proporcionan una distribución de calor uniforme. Para la seguridad del operador y del equipo, se incluye un monitor de temperatura secundario para proteger contra condiciones de sobretemperatura y termopares rotos, brindando tranquilidad durante el funcionamiento sin supervisión.
- Puertos Integrados de Gas y Vacío: El sistema incluye un manómetro de vacío mecánico, dos válvulas de aguja de acero inoxidable y un puerto de vacío KF25. Este conjunto completo de accesorios permite una gestión precisa de la atmósfera, admitiendo niveles de vacío desde 10-2 torr con bombas mecánicas hasta 10-4 torr con sistemas turbomoleculares.
- Perfiles de Tratamiento Térmico Programables: Ambos controladores de temperatura admiten 30 segmentos programables, lo que permite a los usuarios automatizar secuencias complejas de aumento de temperatura, mantenimiento y enfriamiento. Esto garantiza una alta reproducibilidad en múltiples lotes, lo que es fundamental para la investigación estandarizada y el control de calidad industrial.
- Interfaz de Computadora y Registro de Datos: El equipo es compatible con el software de control especializado basado en Labview, lo que permite a los investigadores editar perfiles de temperatura, gestionar recetas y registrar datos en tiempo real en una PC para un análisis y documentación exhaustivos posterior al proceso.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio Clave |
|---|---|---|
| Recocido de Obleas Semiconductoras | Procesamiento térmico de obleas de gran formato (hasta 8") para reparar defectos cristalinos o activar dopantes. | Uniformidad superior en toda la superficie de la oblea. |
| Crecimiento de Nanocintas TMD | Uso de doble zona para controlar independientemente la presión de vapor de calcógeno y la temperatura de reacción del sustrato. | Control preciso del ancho de la nanocinta y la cinética de crecimiento mediante sobresaturación. |
| Pirólisis Catalítica | Descomposición a alta temperatura de materiales orgánicos, como neumáticos de desecho, en atmósferas controladas. | Prevención del sobrecalentamiento localizado y la carbonización excesiva mediante gradientes estables. |
| Sinterizado de Materiales | Consolidación de materiales en polvo en sólidos densos para investigación de cerámica estructural o electrónica. | Densidad y estructura de grano consistentes logradas gracias a la precisión de ±1 °C. |
| Deposición Química de Vapor (CVD) | Deposición precisa de películas delgadas utilizando mezclas de gases especializadas y tubos de procesamiento de gran diámetro. | Aloja sustratos grandes y flujos de gas de gran volumen para investigación escalable. |
| Tratamiento Térmico al Vacío | Alivio de tensiones o endurecimiento de componentes metálicos en un entorno libre de oxígeno. | Elimina la oxidación y la contaminación superficial durante ciclos a alta temperatura. |
Especificaciones Técnicas
| Parámetro | Especificaciones para TU-32 |
|---|---|
| Número de Modelo | TU-32 |
| Material del Tubo | Cuarzo Fundido de Alta Pureza |
| Dimensiones del Tubo | 279 mm D.E x 269 mm D.I x 1000 mm de Longitud (11" x 10.6" x 40") |
| Temperatura Máxima | 1100°C (< 60 min, en gas inerte) |
| Temperatura Continua | 400°C - 1000°C (en vacío o gas fluyente) |
| Temperatura Opcional | 1150°C (con tubo de cuarzo GE 214 actualizado) |
| Zonas de Calefacción | Doble zona: 300 mm (12") cada una; 600 mm (24") en total |
| Zona de Temperatura Constante | 300 mm en el centro (±1 °C) cuando las zonas se configuran de forma idéntica |
| Velocidad de Calentamiento | Máx. 20 °C / min |
| Precisión de Temperatura | ±1 °C |
| Controlador de Temperatura | Dos controladores digitales PID con 30 segmentos programables |
| Termopar | Doble tipo K (sonda conectada a tierra de 12" x 1/4" de diámetro) |
| Elemento de Calefacción | Alambre de Resistencia NiCrAl |
| Voltaje de Entrada | 208 - 240V CA, Monofásico |
| Potencia Nominal | 8 kW |
| Bridas de Vacío | Acero inoxidable de doble capa, enfriada por agua, tipo abisagrado |
| Puertos de Vacío | Puerto KF25, conexiones para manguera de 1/4", dos válvulas de aguja |
| Límite de Vacío | 10-2 torr (bomba mecánica) / 10-4 torr (bomba turbo) |
| Requisito de Enfriamiento | Caudal de agua ≥ 10L/min, Temp < 25ºC, Presión > 25 PSI |
| Cumplimiento | Certificación CE (NRTL/CSA disponible bajo solicitud) |
¿Por Qué Elegirnos?
- Fiabilidad de Grado Industrial: Diseñado con alambres de resistencia de alta durabilidad y aislamiento fibroso avanzado, este sistema está pensado para una consistencia operativa a largo plazo en entornos de investigación exigentes.
- Capacidad para Gran Escala: El tubo de 11 pulgadas de diámetro es una oferta poco común en hornos de escala de laboratorio, que proporciona el volumen necesario para el procesamiento de obleas de 8 pulgadas y lotes grandes de materiales sin requerir equipos de tamaño industrial.
- Gestión Térmica de Precisión: El control independiente de doble zona proporciona la flexibilidad térmica necesaria para la deposición química de vapor compleja y el crecimiento de nanoestructuras, garantizando el más alto nivel de control experimental.
- Seguridad y Protección Robustas: La monitorización secundaria de temperatura integrada y los sistemas de bridas enfriadas por agua protegen los activos de su laboratorio y garantizan la longevidad de los sellos de alto vacío.
- Integración Completa: Desde la compatibilidad con el software Labview hasta opciones personalizables de mezcla de gases y estación de vacío, este horno es una plataforma completa y expandible para sus necesidades de procesamiento térmico.
Para obtener más información sobre el horno de doble zona TU-32 o recibir una cotización personalizada adaptada a sus requisitos específicos de manejo de vacío y gases, comuníquese con nuestro equipo de ventas técnicas hoy mismo.
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