Horno de tubo deslizante doble de 1200 °C máx. con bridas de tubo de 50 mm para CVD

Descripción del producto

Este sistema deslizante de doble zona de alto rendimiento representa un avance en el procesamiento térmico para la investigación de materiales avanzados. Diseñado específicamente para aplicaciones de deposición química de vapor (CVD) y transporte físico de vapor (PVT), el equipo cuenta con dos unidades de calentamiento independientes montadas sobre un riel deslizante de ingeniería de precisión. Esta configuración permite un control sin precedentes sobre los gradientes de temperatura y el ciclado térmico rápido, lo que permite a los investigadores lograr perfiles de síntesis complejos que son imposibles con sistemas estacionarios. Al mover las zonas de calentamiento en relación con el tubo de procesamiento, los usuarios pueden crear puntos calientes localizados para la evaporación de precursores mientras mantienen una temperatura distinta para la deposición del sustrato.

Construida para los rigores de la I+D industrial y los entornos de laboratorio de semiconductores, la unidad facilita la producción de películas delgadas, materiales 2D y nanoestructuras de alta calidad. Su principal propuesta de valor radica en su versatilidad: funciona como un horno de doble zona para el crecimiento de gradientes controlados o como una herramienta de enfriamiento térmico rápido para investigar transiciones de fase. Las industrias objetivo incluyen la aeroespacial, el almacenamiento de energía (específicamente el desarrollo de células solares de perovskita) y la microelectrónica, donde la precisión y la repetibilidad son los cimientos de una innovación exitosa.

Diseñado con un enfoque en la fiabilidad a largo plazo, el sistema utiliza una estructura robusta de acero de doble capa para garantizar la seguridad externa y la eficiencia térmica. Los rieles deslizantes de alta resistencia están diseñados para un movimiento suave y constante incluso después de miles de ciclos a altas temperaturas. Cada componente, desde los elementos calefactores de aleación Fe-Cr-Al dopados hasta las bridas herméticas de acero inoxidable, se selecciona para soportar las condiciones exigentes de entornos de alto vacío y gases corrosivos. Este compromiso con la excelencia en ingeniería garantiza que el equipo ofrezca un rendimiento constante, día tras día, en los escenarios de investigación más desafiantes.

Características principales

• Control independiente de doble zona: Dos unidades de horno separadas, cada una con una zona de calentamiento de 200 mm, permiten una programación PID independiente. Esto permite la gestión simultánea de la sublimación del precursor y las temperaturas de crecimiento del sustrato, lo cual es fundamental para recetas de CVD complejas.
• Sistema de riel deslizante de precisión: El equipo está montado sobre un sistema de riel doble deslizante de 1200 mm. Esto permite a los operadores mover manualmente o (opcionalmente) automáticamente los hornos a lo largo de una distancia de 400 mm, proporcionando un mecanismo físico para cambios rápidos de temperatura y enfriamiento.
• Dinámica térmica avanzada: Al deslizar el horno caliente lejos de la ubicación de la muestra, el sistema puede alcanzar tasas de calentamiento y enfriamiento de hasta 100 °C/min. Esta capacidad de procesamiento térmico rápido (RTP) es esencial para controlar el tamaño del grano y la estructura cristalina en películas delgadas avanzadas.
• Elementos calefactores de alto rendimiento: Equipado con elementos de aleación Fe-Cr-Al dopados con molibdeno, la unidad proporciona un rendimiento de calentamiento estable y duradero de hasta 1200 °C, lo que garantiza una larga vida útil incluso bajo operación continua a alta temperatura.
• Bridas de vacío herméticas: Las bridas de vacío de acero inoxidable con medidores integrados y soportes de alta resistencia vienen de serie. Estos aseguran un entorno hermético, soportando niveles de vacío de hasta 10E-5 torr cuando se combinan con una bomba molecular.
• Automatización PID programable: Cada zona está gobernada por un controlador automático que cuenta con 30 segmentos programables. Esto permite un control preciso sobre las tasas de rampa, los tiempos de permanencia y las curvas de enfriamiento, reduciendo el riesgo de error humano durante ciclos complejos.
• Protecciones de seguridad integradas: El sistema incluye alarmas de sobretemperatura integradas y funciones de apagado automático. El diseño de la carcasa de acero de doble capa incorpora refrigeración por aire para mantener la superficie del horno segura al tacto durante el funcionamiento.
• Expansión modular del sistema: El equipo está diseñado para crecer con sus necesidades de investigación. Se puede actualizar fácilmente con controladores de flujo másico (MFC) para una entrega precisa de gas, generadores de plasma de RF para PECVD o kits de rieles motorizados para ciclos de deslizamiento automatizados.

Aplicaciones

Especificaciones técnicas

¿Por qué elegir el TU-RT05?

• Flexibilidad térmica superior: El diseño deslizante doble ofrece un nivel de control de proceso que los hornos estacionarios no pueden igualar, específicamente para el enfriamiento rápido y el CVD controlado por gradiente.
• Ingeniería de precisión: Construido con componentes de primera calidad, incluidos elementos de aleación dopados con Mo y bridas de acero inoxidable de alta calidad, lo que garantiza la integridad del alto vacío y la estabilidad de la temperatura.
• Escalabilidad preparada para el futuro: Ya sea que necesite una configuración de CVD simple hoy o un sistema PECVD totalmente automatizado mañana, esta unidad admite actualizaciones sin problemas con MFC y generadores de RF.
• Eficiencia de enfriamiento inigualable: La separación física de la cámara de calentamiento del tubo de procesamiento permite un enfriamiento rápido real, fundamental para la investigación metalúrgica y de semiconductores.
• Fiabilidad probada: Con miles de unidades en funcionamiento en todo el mundo, nuestro diseño es el estándar de la industria en cuanto a durabilidad y consistencia operativa en la investigación de alta temperatura.

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