Horno de tubo de cuarzo de doble zona con 80 mm de diámetro, temperatura máxima de 1200°C, mezclador de gas de 3 canales y sistema de bomba de vacío

Descripción general del producto

Este horno de tubo dividido de doble zona de alto rendimiento representa una solución versátil para la investigación avanzada en ciencia de materiales y el desarrollo industrial. Al integrar un sistema de suministro de gas multicanal con capacidades de alto vacío, este sistema proporciona el entorno controlado necesario para la Deposición Química de Vapor (CVD), el Transporte Químico de Vapor (CVT) y diversos procesos de recocido a alta temperatura. El equipo está diseñado para investigadores que requieren un control absoluto sobre los gradientes térmicos y la composición atmosférica, garantizando resultados repetibles en el desarrollo de materiales de próxima generación, como los dicalcogenuros de metales de transición y los semiconductores de película delgada.

El valor principal de esta unidad radica en su arquitectura de doble zona, que permite crear gradientes de temperatura precisos a lo largo de un tubo de cuarzo de alta pureza. Esta funcionalidad es esencial para procesos en los que la sublimación del precursor y la deposición del sustrato deben producirse a temperaturas distintas y controladas de forma independiente. Los sectores objetivo incluyen la fabricación de semiconductores, la investigación en nanotecnología y la metalurgia avanzada. El diseño de horno dividido facilita el enfriamiento rápido y el acceso fácil a la cámara de proceso, reduciendo significativamente el tiempo de inactividad entre ejecuciones experimentales y aumentando el rendimiento de los entornos de laboratorio con alta actividad.

La fiabilidad está integrada en cada componente de este sistema de procesamiento térmico. Desde la carcasa de acero de doble capa con enfriamiento por ventilador integrado hasta los controladores PID de precisión, el equipo está construido para soportar un funcionamiento continuo en condiciones exigentes. La inclusión de un medidor de vacío anticorrosivo garantiza que incluso al trabajar con gases agresivos, el sistema mantenga un monitoreo preciso de la presión sin degradación del sensor. Esta unidad ofrece el rendimiento robusto y el cumplimiento de normas de seguridad necesarios para los entornos de laboratorio modernos, proporcionando a los usuarios la confianza para ejecutar perfiles térmicos complejos con una supervisión mínima.

Características principales

• Calefacción de doble zona independiente: El horno cuenta con dos zonas de calefacción separadas, cada una de 200 mm de longitud, que proporcionan un área de calefacción total de 400 mm. Esto permite crear gradientes de temperatura precisos o una gran zona de temperatura constante de hasta 250 mm cuando ambas zonas están sincronizadas, ofreciendo una flexibilidad sin precedentes para el Transporte Químico de Vapor (CVT).
• Control de temperatura PID de precisión: Equipado con dos controladores PID avanzados, el sistema ofrece 30 segmentos programables para una gestión meticulosa de las velocidades de calentamiento, enfriamiento y tiempos de mantenimiento. La precisión se mantiene dentro de ±1°C, garantizando una alta estabilidad del proceso para el crecimiento de materiales sensibles.
• Estación de mezcla de gas de 3 canales integrada: Se incluye un sistema profesional de suministro de gas, con tres caudalímetros independientes y un tanque de mezcla. Esto permite la mezcla precisa de diversos gases de proceso, facilitando reacciones de CVD complejas y el control atmosférico dentro de la cámara de reacción de cuarzo.
• Integración de vacío de alto rendimiento: El sistema incluye una bomba de vacío de paletas rotativas de doble etapa de 156 L/min de alta resistencia, capaz de alcanzar niveles de vacío de hasta 10^-2 torr. El sistema de vacío está asegurado con bridas y válvulas de acero inoxidable KF25 de alta calidad para garantizar una integridad del vacío a largo plazo y tasas de fuga inferiores a 5 m-torr/min.
• Medidor de capacitancia Pirani anticorrosivo: A diferencia de los medidores estándar, esta unidad utiliza un medidor de diafragma de capacitancia con revestimiento cerámico. Este sensor especializado está diseñado para resistir la corrosión de precursores químicos agresivos, proporcionando mediciones de vacío fiables de 10^-5 a 1000 torr en entornos de proceso hostiles.
• Seguridad y enfriamiento avanzados: La carcasa de acero de doble capa incorpora un sistema de enfriamiento por aire automático. Los termostatos integrados activan los ventiladores internos si la temperatura de la carcasa supera los 55°C, garantizando que el exterior siga siendo seguro al tacto y protegiendo los componentes electrónicos internos del estrés térmico.
• Cámara de proceso de cuarzo de alta pureza: El sistema utiliza un tubo de cuarzo fundido de alta pureza con 80 mm de diámetro exterior. Este material ofrece una resistencia excepcional al choque térmico y una inercia química, proporcionando un entorno transparente que permite el monitoreo visual de las muestras y precursores durante el tratamiento térmico.
• Automatización y conectividad: Un puerto de comunicación RS485 integrado permite el registro de datos externo. El sistema también es compatible con el software basado en LabView, lo que permite el funcionamiento remoto y la gestión de recetas a través de un PC para flujos de trabajo de investigación altamente automatizados.

Aplicaciones

Especificaciones técnicas

¿Por qué elegirnos?

• Versatilidad térmica superior: La configuración de doble zona de este sistema proporciona a los investigadores la capacidad esencial para crear gradientes térmicos precisos, un requisito para el Transporte Químico de Vapor y el crecimiento de cristales de alta calidad que los hornos de una sola zona no pueden igualar.
• Fiabilidad de vacío de grado industrial: Al incluir un medidor de diafragma de capacitancia anticorrosivo de serie, este horno garantiza durabilidad y precisión al manipular gases agresivos, protegiendo su inversión de las fallas de sensor comunes en los sistemas de gama baja.
• Ingeniería atmosférica de precisión: El mezclador de gas de 3 canales integrado y la bomba de vacío proporcionan una solución completa y lista para usar para la investigación de CVD, eliminando la necesidad de componentes de terceros y garantizando una compatibilidad perfecta entre el suministro de gas y el procesamiento térmico.
• Seguridad y certificación probadas: Con la certificación CE y el uso de componentes eléctricos certificados UL/MET/CSA, este equipo cumple con los rigurosos estándares de seguridad requeridos por los principales laboratorios académicos e industriales de todo el mundo.
• Ingeniería robusta y soporte: Construido con una carcasa enfriada por aire de doble capa y elementos de aleación dopada con Mo de alta eficiencia, la unidad está diseñada para años de funcionamiento constante. Ofrecemos soporte técnico completo y opciones de personalización para satisfacer las necesidades específicas de su investigación.

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