Horno de Tubo de 4 Pulgadas de Alta Temperatura 1200°C con Brida Deslizante para Sistemas CVD

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Horno de Tubo de 4 Pulgadas de Alta Temperatura 1200°C con Brida Deslizante para Sistemas CVD

Número de artículo: TU-RT25

Temperatura máxima: 1200°C Dimensiones del tubo: 4.33" D.E x 4.05" D.I x 29.13" L Zona de calefacción: 440mm (Total) / 100mm (Constante)
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Descripción General del Producto

Imagen del producto 1

Este sistema de procesamiento térmico de alto rendimiento es una solución especializada diseñada para la síntesis avanzada de materiales y la deposición química de vapor (CVD). Al integrar un tubo de cuarzo de gran diámetro con un versátil mecanismo de brida deslizante, el equipo proporciona a los investigadores una plataforma adaptable para el tratamiento térmico de precisión. La propuesta de valor central radica en su capacidad para facilitar transiciones rápidas de muestras y mantener entornos térmicos estables hasta 1200°C, lo que lo convierte en una piedra angular para laboratorios centrados en recubrimientos de película delgada, nanotecnología y desarrollo de semiconductores.

Optimizado para la fiabilidad, esta unidad es ampliamente utilizada en los sectores electrónico, aeroespacial y energético. Sirve como herramienta principal para desarrollar materiales de próxima generación como el grafeno y los nanotubos de carbono, donde el control atmosférico y la uniformidad térmica son innegociables. La construcción robusta garantiza que se obtengan resultados de alta pureza de manera consistente, incluso cuando el sistema se somete a ciclos de calentamiento repetidos en condiciones de vacío o de gas controlado.

Diseñado para entornos de I+D exigentes, el sistema prioriza tanto el rendimiento como la seguridad operativa. Desde las bridas de refrigeración por agua mecanizadas con precisión hasta el mecanismo de enclavamiento de seguridad inteligente, cada componente se selecciona para minimizar el riesgo experimental y maximizar el rendimiento. Este equipo representa una inversión significativa en la productividad del laboratorio, ofreciendo la durabilidad requerida para la investigación industrial a largo plazo y la precisión necesaria para el descubrimiento científico de vanguardia.

Características Principales

  • Sistema Avanzado de Brida Deslizante: La brida del lado derecho está montada en un conjunto de riel deslizante, permitiendo a los operadores introducir y sacar muestras de la zona caliente con un esfuerzo mínimo. Esta elección de ingeniería es crítica para los requisitos de enfriamiento rápido y agiliza significativamente el proceso de carga de muestras, reduciendo el riesgo de contaminación o choque térmico en el tubo de cuarzo.
  • Control Térmico PID de Precisión: Equipado con un controlador digital con funcionalidad de autosintonización y 30 segmentos programables, el sistema mantiene una estabilidad de temperatura de ±1°C. Este nivel de precisión es esencial para el crecimiento CVD repetible y los procesos de recocido delicados, donde incluso fluctuaciones menores pueden comprometer las propiedades del material.
  • Gestión de Vacío y Gases de Alta Integridad: El sistema admite entornos de baja presión y atmósferas de gas complejas. La brida izquierda incluye cuatro conexiones Swagelok para entradas de gas, mientras que la brida derecha cuenta con un puerto de vacío KF25 y un manómetro de diafragma capacitivo anticorrosivo, proporcionando el monitoreo integral requerido para el procesamiento de vacío de alta pureza.
  • Protección Integrada por Refrigeración por Agua: Para preservar la integridad de las juntas tóricas de sellado durante las operaciones a alta temperatura, las bridas están diseñadas con canales internos de refrigeración por agua. Esta característica garantiza que el sello de vacío permanezca hermético incluso cuando el horno opera a su temperatura máxima nominal de 1200°C.
  • Diseño de Cubierta Dividida con Prioridad en la Seguridad: La carcasa del horno presenta una arquitectura de cubierta dividida con un enclavamiento de seguridad integrado. Si la cubierta se abre durante el funcionamiento, la energía a los elementos calefactores se corta inmediatamente, protegiendo al operador y evitando daños accidentales a los componentes internos.
  • Zona de Temperatura Constante Optimizada: La arquitectura de calentamiento está diseñada para proporcionar una zona de temperatura constante de 100 mm dentro de un área de calentamiento total de 440 mm. Esto asegura que las muestras estén sujetas a perfiles térmicos uniformes, lo cual es un requisito previo para lograr una deposición de película delgada homogénea en toda la superficie del sustrato.
  • Tubo de Procesamiento de Gran Diámetro: El tubo de cuarzo de 4 pulgadas (100 mm de diámetro interno) permite procesar sustratos más grandes o múltiples muestras simultáneamente. Esta capacidad es vital para la investigación que busca escalar desde el descubrimiento a pequeña escala hasta la producción de materiales a nivel piloto.
  • Monitoreo Inteligente e Integración con PC: Con software opcional basado en Labview y capacidades de control WiFi, los usuarios pueden gestionar de forma remota las recetas de tratamiento térmico, registrar datos en tiempo real y trazar perfiles térmicos, proporcionando un rastro de auditoría digital para experimentos industriales sensibles.

Aplicaciones

Aplicación Descripción Beneficio Clave
Síntesis de Grafeno Crecimiento CVD térmico de capas de grafeno de alta calidad sobre catalizadores de cobre o níquel. El control preciso del flujo de gas y la temperatura asegura estructuras de red uniformes.
Crecimiento de Nanotubos de Carbono (CNT) Producción de nanotubos de pared simple o múltiple mediante la descomposición de hidrocarburos. La brida deslizante permite un temple térmico rápido para congelar los estados de crecimiento de los nanotubos.
Dopaje de Semiconductores Difusión de impurezas en obleas de silicio o semiconductores compuestos para alterar las propiedades eléctricas. El diámetro de 4 pulgadas acomoda tamaños de oblea estándar para investigación académica e industrial.
Deposición de Película Delgada Recubrimiento de sustratos con películas metálicas o cerámicas funcionales utilizando técnicas CVD o PECVD. La integridad del vacío previene la oxidación y asegura una adhesión de película de alta pureza.
Sinterizado de Cerámica Consolidación a alta temperatura de polvos cerámicos avanzados y materiales compuestos. La capacidad de 1200°C soporta una amplia gama de procesos de densificación para cerámicas técnicas.
Recocido de Materiales para Baterías Tratamiento térmico de materiales de electrodos para baterías de iones de litio bajo atmósferas inertes. El control PID preciso previene la separación de fases y mantiene el rendimiento electroquímico.
Desarrollo de Células Solares Procesamiento de materiales solares de perovskita o película delgada bajo condiciones atmosféricas controladas. El diseño modular de la brida permite pasamuros personalizados para el monitoreo in situ.
Investigación en Metalurgia Alivio de tensiones y recocido de muestras de aleaciones especializadas en un entorno de vacío. Los sistemas de enfriamiento confiables protegen el equipo durante ciclos de calor de larga duración.

Especificaciones Técnicas

Categoría de Parámetro Detalles de Especificación para TU-RT25
Identificador del Modelo TU-RT25
Material y Dimensiones del Tubo Tubo de cuarzo de alta pureza; 4.33" (110 mm) D.E. x 4.05" (103 mm) D.I. x 29.13" (740 mm) Longitud
Temperatura Máxima 1200°C (para duraciones < 30 minutos)
Temperatura de Trabajo Continua 200°C a 1100°C
Longitud de la Zona de Calentamiento Zona de calentamiento total: 440 mm; Zona de temperatura constante: 100 mm
Tasa de Calentamiento y Enfriamiento Máximo 20°C por minuto
Controlador de Temperatura PID digital con autosintonización; 30 segmentos programables; precisión de ±1°C
Tipo de Termopar Tipo K, insertado desde la brida del lado derecho
Tensión Nominal Monofásica, 220V CA, 50/60 Hz
Consumo de Energía Máximo 3600 W (Requiere interruptor de 20 A)
Conexión de Vacío Puerto KF25 en la brida derecha; incluye manómetro de diafragma capacitivo anticorrosivo
Conexiones de Entrada de Gas Cuatro conexiones Swagelok de 1/8" en la brida izquierda
Requisitos de Enfriamiento Bridas refrigeradas por agua (conectores rápidos de 12 mm); se recomienda enfriador
Límite Atmosférico Uso en vacío hasta 1000°C; Presión positiva < 0.2 bares (3 psi)
Cumplimiento Certificado CE (certificación NRTL/CSA/TUV disponible bajo petición)
Características de Seguridad Cubierta dividida con protección de enclavamiento de corte de energía

Por Qué Elegirnos

Elegir este sistema térmico representa un compromiso con la precisión y la eficiencia operativa. El diseño de la brida deslizante es un diferenciador importante, ofreciendo un nivel de flexibilidad y rendimiento que los hornos de tubo fijo estándar no pueden igualar. Esto hace que el sistema sea ideal para laboratorios de alto tráfico donde se deben realizar múltiples experimentos diariamente sin comprometer la integridad del sello de vacío o del propio tubo de cuarzo.

Desde una perspectiva de ingeniería, el sistema está construido para soportar los rigores de la I+D industrial. El uso de cuarzo de alto grado y componentes de acero inoxidable refrigerados por agua garantiza una durabilidad a largo plazo, incluso cuando se opera cerca del límite de 1200°C. Nuestro enfoque en la seguridad, evidenciado por el sistema de enclavamiento integrado y la certificación CE, proporciona tranquilidad tanto a los gerentes de instalaciones como a los investigadores.

Además, la naturaleza modular del sistema permite una personalización significativa. Ya sea que requiera pasamuros de gas específicos, bombas de vacío mejoradas o software integrado para monitoreo remoto, esta unidad puede adaptarse para cumplir con los requisitos exactos de su proceso CVD o de tratamiento térmico. Posicionamos este equipo como una inversión premium que ofrece resultados consistentes y de alta pureza durante años.

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