Horno de tubo deslizante dual de 1200 °C con tubos y bridas dobles para procesos PECVD

Descripción del producto

Este sistema de horno de deslizamiento dual de alta temperatura representa una solución sofisticada para la deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD) y el procesamiento térmico rápido. Al integrar dos unidades de calentamiento independientes en un riel deslizante de ingeniería de precisión, el equipo permite un control inigualable sobre los gradientes térmicos y las velocidades de transición. Está diseñado específicamente para satisfacer las rigurosas demandas de los investigadores en ciencia de materiales que requieren reacciones precisas en fase de vapor y deposición de película delgada de alta calidad en diferentes zonas térmicas.

Utilizado principalmente en la fabricación de semiconductores, síntesis de nanomateriales e investigación de recubrimientos avanzados, este sistema destaca en entornos donde el calentamiento y enfriamiento rápidos son críticos para lograr fases materiales específicas. La configuración de horno dual permite la separación física de las zonas de evaporación del precursor y deposición del sustrato, un requisito clave para el crecimiento de materiales complejos como perovskitas o cristales 2D. Las industrias objetivo incluyen la aeroespacial, el almacenamiento de energía y la optoelectrónica, donde la pureza del material y la integridad estructural son primordiales para el desarrollo de tecnología de próxima generación.

Construida para una fiabilidad de grado industrial, la unidad utiliza cuarzo de alta pureza y aislamiento térmico avanzado para mantener una estabilidad térmica excepcional. El robusto mecanismo deslizante y la fuente de plasma de RF integrada aseguran que el equipo funcione de manera consistente bajo ciclos de operación continua exigentes. Este sistema proporciona una plataforma estable y repetible para la síntesis a alta temperatura, ofreciendo a los laboratorios industriales y académicos la confianza para ejecutar protocolos experimentales complejos sin comprometer la precisión o la seguridad.

Características principales

• Sistema deslizante dinámico de horno dual: El equipo cuenta con dos hornos independientes montados sobre un riel deslizante de acero cromado de 1200 mm. Esto permite mover las cámaras de calentamiento manualmente hasta 400 mm, lo que permite a los usuarios cambiar entre las zonas de evaporación de la fuente y de deposición, o lograr un enfriamiento térmico rápido alejando la fuente de calor de la muestra.
• Integración de plasma de RF de alto rendimiento: Equipado con un generador de RF de 13.56 MHz y 300W con adaptación automática, este sistema permite la deposición química de vapor mejorada por plasma. La fuente de plasma permite el crecimiento de películas a temperaturas significativamente más bajas en comparación con el CVD tradicional, preservando la integridad de los sustratos sensibles.
• Capacidades de procesamiento térmico rápido (RTP): Al precalentar un horno y deslizarlo sobre la zona de procesamiento, el sistema puede alcanzar tasas extremas de calentamiento y enfriamiento (hasta 15 °C/seg en rangos específicos), lo que permite el estudio de la cinética a alta temperatura y procesos de recocido rápido.
• Regulación de temperatura PID de precisión: Cada unidad de horno está controlada por un controlador automático PID dedicado con 30 segmentos programables. Esto garantiza una precisión de zona de temperatura constante de ±1 °C, proporcionando la consistencia requerida para la deposición química de vapor sensible.
• Seguridad y durabilidad avanzadas: Los hornos utilizan una estructura de acero de doble capa con refrigeración por aire para mantener una temperatura superficial externa baja. Las alarmas de sobretemperatura integradas y los sistemas de protección permiten una operación segura y sin supervisión durante ciclos de deposición largos.
• Entorno de material de alta pureza: El sistema incluye un tubo de cuarzo fundido de alta pureza con un diámetro exterior de 50 mm y bridas de vacío de acero inoxidable. Esta configuración garantiza un entorno limpio y hermético al vacío, adecuado para la síntesis de materiales de alta pureza y el procesamiento a baja presión.
• Control versátil de gradiente térmico: El diseño de zona dual permite el calentamiento independiente de precursores y sustratos. Esto es crítico para materiales con diferentes presiones de vapor, asegurando el equilibrio estequiométrico en la zona de reacción.
• Opciones de expansión modular: El sistema está diseñado para crecer con las necesidades de investigación, admitiendo rieles deslizantes motorizados opcionales, sistemas de mezcla de gases multicanal y módulos de control basados en PC para el registro de datos automatizado y la gestión de perfiles.

Aplicaciones

Especificaciones técnicas

¿Por qué elegir TU-RT11?

• Versatilidad avanzada de zona dual: A diferencia de los hornos de tubo estándar, el diseño deslizante dual del TU-RT11 permite un procesamiento térmico multietapa complejo y una gestión independiente de precursores, lo cual es vital para la ciencia de materiales moderna.
• Agilidad térmica superior: La capacidad de alcanzar tasas de enfriamiento y calentamiento de hasta 15 °C/seg proporciona a los investigadores una herramienta capaz de simular entornos industriales de procesamiento térmico rápido (RTP) y enfriamiento.
• Ingeniería de precisión: Con adaptación automática de RF y una precisión de temperatura de ±1 °C, este sistema elimina las variables en PECVD, asegurando que su deposición de película delgada sea repetible y de la más alta calidad.
• Cumplimiento y seguridad integrales: Cada unidad cuenta con certificación CE y está construida con estructuras de seguridad de doble capa, lo que garantiza un entorno de laboratorio seguro incluso durante operaciones de RF de alta potencia y alta temperatura.
• Soluciones personalizables: Desde tubos de aleación para aplicaciones de alta presión hasta deslizamiento motorizado y suministro de gas multicanal, ofrecemos una amplia personalización para adaptar el equipo a sus objetivos de investigación específicos.

Comuníquese con nuestro equipo de ventas técnicas hoy mismo para obtener una cotización detallada o para discutir cómo podemos personalizar este sistema PECVD de alto rendimiento para sus requisitos de investigación específicos.