Horno de tubo
Horno tubular de doble zona de alta temperatura de 1700C para investigación en ciencia de materiales y deposición química de vapor industrial
Número de artículo: TU-74
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Descripción general del producto
Este sistema de procesamiento térmico de alto rendimiento está diseñado para la investigación avanzada de materiales y el desarrollo industrial que requieren un control preciso e independiente de múltiples zonas térmicas. Al utilizar una configuración de doble zona, el equipo permite crear gradientes de temperatura sofisticados, esenciales para procesos especializados como el transporte químico de vapor (CVT) y la deposición física de vapor (PVD). La arquitectura del sistema combina dos tecnologías de calentamiento distintas en una sola unidad, proporcionando una plataforma versátil para sintetizar materiales funcionales y crecer películas epitaxiales de alta calidad.
Diseñada para los entornos de laboratorio e industriales más exigentes, esta unidad se utiliza ampliamente en investigación de semiconductores, metalurgia y química del estado sólido. Sirve como herramienta crítica para investigadores centrados en el crecimiento de nanocintas de dicalcogenuros de metales de transición (TMD) y el desarrollo de cristales simples de alta pureza. La construcción robusta garantiza que el sistema mantenga una estabilidad térmica excepcional incluso al operar a temperaturas que alcanzan los 1700ºC, lo que permite resultados consistentes y repetibles en proyectos de I+D de alta exigencia.
La fiabilidad y la seguridad están en el centro de la filosofía de diseño de este equipo. Construido con una carcasa de acero de doble capa e integrado con ventiladores de refrigeración, el sistema mantiene una baja temperatura superficial externa, protegiendo al personal del laboratorio y al equipo circundante. El uso de aislamiento fibroso de alúmina de alta pureza no solo mejora la eficiencia energética, sino que también contribuye a ciclos de calentamiento y enfriamiento rápidos, maximizando el rendimiento en instalaciones de investigación con alta carga de trabajo. Los compradores pueden invertir con confianza, sabiendo que este sistema está construido para soportar los rigores de la operación continua a alta temperatura sin comprometer el rendimiento.
Características clave
- Control independiente de doble zona: Cada zona de calentamiento de 12 pulgadas es gestionada por su propio controlador digital de precisión, lo que permite generar gradientes térmicos específicos o un calentamiento uniforme a lo largo de un tramo total de 24 pulgadas.
- Tecnología avanzada de doble elemento: La primera zona utiliza elementos de carburo de silicio (SiC) para un funcionamiento estable hasta 1400ºC, mientras que la segunda zona emplea elementos de disiliciuro de molibdeno (MoSi2) para alcanzar temperaturas máximas de 1700ºC, ofreciendo una flexibilidad inigualable para perfiles térmicos diversos.
- Gestión precisa de temperatura PID: Equipado con controladores digitales programables de 30 segmentos, el sistema proporciona control PID automatizado mediante rectificadores controlados por silicio (SCR), garantizando una precisión de ±1ºC.
- Aislamiento de alúmina de alta pureza: La cámara del horno está revestida con alúmina fibrosa de alta densidad, que minimiza la pérdida de calor y asegura un alto grado de uniformidad de temperatura al tiempo que evita la contaminación de muestras sensibles.
- Protocolos de seguridad mejorados: Las alarmas integradas de sobretemperatura y los circuitos de protección automática permiten una operación segura y sin supervisión, mientras que la carcasa de doble capa mantiene fresco el entorno exterior.
- Sistema de sellado preparado para vacío: El equipo incluye bridas de sellado al vacío de acero inoxidable de alta resistencia con válvulas y manómetros integrados, compatibles con aplicaciones de baja presión y procesamiento en atmósfera inerte.
- Tubos de proceso de alúmina de alta resistencia: El sistema admite varios diámetros de tubo (50 mm, 60 mm y 80 mm) para adaptarse a distintos volúmenes de muestra y requisitos de rendimiento sin sacrificar la integridad estructural a altas temperaturas.
- Arquitectura eléctrica robusta: Con cables de alimentación de alta resistencia aprobados por UL y un requerimiento de disyuntor de aire de 60A, el sistema está diseñado para suministrar energía estable durante las fases de calentamiento de alta demanda.
- Opciones de interfaz versátiles: Los conectores estándar de manguera con espiga pueden actualizarse a adaptadores KF25 para aplicaciones de alto vacío o a racores de sello frontal VCR para suministro de gas a alta presión, atendiendo necesidades técnicas específicas.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio clave |
|---|---|---|
| Crecimiento de nanocintas TMD | Control preciso de la presión de vapor de calcógeno durante el crecimiento de nanocintas de dicalcogenuros de metales de transición. | Ajuste independiente de la concentración de vapor sin afectar la cinética de crecimiento. |
| Transporte químico de vapor (CVT) | Establecimiento de gradientes de temperatura estables a lo largo del tubo de proceso para la migración de vapores químicos. | Permite el crecimiento de cristales simples grandes y de alta pureza, como PdCoO2. |
| Crecimiento de películas epitaxiales | Uso de procesos CVD o PVD bajo vacío para depositar capas delgadas sobre sustratos. | La alta uniformidad de temperatura en toda la zona de crecimiento garantiza un espesor de película constante. |
| Pirólisis catalítica | Calentamiento de materiales de desecho industrial, como neumáticos usados, a tasas controladas para analizar la distribución de subproductos. | Evita el sobrecalentamiento localizado y asegura una recuperación de aceite y gas de alta calidad. |
| Síntesis de materiales funcionales | Someter precursores de materiales a gradientes térmicos específicos para inducir los cambios de fase deseados. | Producción repetible de materiales avanzados con propiedades físicas a medida. |
| Dopaje de semiconductores | Difusión de dopantes en obleas semiconductoras bajo control de atmósfera de alta temperatura. | La programación precisa de 30 segmentos permite un control exacto de la profundidad de penetración. |
| Sinterizado cerámico | Consolidación a alta temperatura de polvos cerámicos avanzados en componentes sólidos. | Las rápidas tasas de calentamiento de hasta 10ºC/min optimizan el tiempo de procesamiento para cerámicas de alta densidad. |
Especificaciones técnicas
| Parámetro | TU-74-50 | TU-74-60 | TU-74-80 |
|---|---|---|---|
| Diámetro exterior del tubo | 50 mm | 60 mm | 80 mm |
| Diámetro interior del tubo | 44 mm | 54 mm | 74 mm |
| Longitud del tubo | 1200 mm | 1200 mm | 1200 mm |
| Temperatura máxima de la zona 1 | 1500ºC (elementos SiC) | 1500ºC (elementos SiC) | 1500ºC (elementos SiC) |
| Temperatura máxima de la zona 2 | 1700ºC (elementos MoSi2) | 1700ºC (elementos MoSi2) | 1700ºC (elementos MoSi2) |
| Longitud de la zona de calentamiento | 12" + 12" (300 mm + 300 mm) | 12" + 12" (300 mm + 300 mm) | 12" + 12" (300 mm + 300 mm) |
| Zona de temperatura constante | 14" (350 mm) dentro de ±1ºC | 14" (350 mm) dentro de ±1ºC | 14" (350 mm) dentro de ±1ºC |
| Velocidad de calentamiento | Máx. 10ºC/min | Máx. 10ºC/min | Máx. 10ºC/min |
| Termopares | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) | Tipo S (Zona 1) / Tipo B (Zona 2) |
| Precisión de control | ±1ºC | ±1ºC | ±1ºC |
| Potencia total | 9 KW | 9 KW | 9 KW |
| Voltaje | 220-240V monofásico | 220-240V monofásico | 220-240V monofásico |
| Dimensiones generales | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm |
| Certificación | Certificado CE | Certificado CE | Certificado CE |
| Límite de vacío | < 0.02 Mpa (seguro hasta 1500ºC) | < 0.02 Mpa (seguro hasta 1500ºC) | < 0.02 Mpa (seguro hasta 1500ºC) |
Por qué elegir el horno tubular de doble zona de alta temperatura de 1700C
- Ingeniería superior y calidad de materiales: Con una combinación de elementos calefactores SiC y MoSi2, este sistema está diseñado para ofrecer longevidad y un rendimiento preciso que los hornos convencionales no pueden igualar.
- Control de gradiente térmico líder en la industria: El control PID independiente de 30 segmentos para cada zona permite a los investigadores ejecutar perfiles térmicos complejos con una repetibilidad y precisión inigualables.
- Seguridad y cumplimiento integrales: Con certificación CE y protección integrada contra sobretemperatura, esta unidad cumple con los estrictos requisitos de seguridad de los laboratorios industriales y académicos modernos.
- Configuración flexible y escalable: Desde tamaños de tubo ajustables hasta control remoto inalámbrico opcional e integración con Labview, este sistema puede personalizarse para satisfacer las necesidades específicas de rendimiento y registro de datos de su instalación.
- Fiabilidad probada en I+D avanzada: Este equipo es un elemento básico en la síntesis de materiales de alta gama, en el que confían instituciones líderes por su capacidad para mantener entornos estables de vacío y temperatura.
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