Horno RTP
Horno de tubo partido de alta temperatura a 1200°C con mecanismo de desplazamiento interno para investigación en HPCVD y crecimiento de cristales
Número de artículo: TU-RT07
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Descripción del producto
Este sistema de procesamiento de alta temperatura es un sofisticado horno de tubo partido de 2 pulgadas diseñado para la síntesis avanzada de materiales y la investigación térmica. En su núcleo, la unidad integra un mecanismo de desplazamiento interno especializado que permite a los investigadores controlar con precisión la posición de la barqueta o crisol de muestras dentro de la cámara de calentamiento mientras se encuentra bajo vacío. Esta capacidad es fundamental para procesos que requieren un movimiento dinámico a través de un gradiente térmico, proporcionando una plataforma versátil para la deposición física-química de vapor híbrida (HPCVD) y el crecimiento de cristales de alta pureza. El diseño de horno partido mejora aún más la eficiencia operativa, permitiendo un enfriamiento rápido y un fácil acceso al tubo de procesamiento.
Diseñado para los entornos de laboratorio más exigentes, este equipo sirve como una herramienta crítica para investigadores en ciencia de materiales, desarrollo de semiconductores y química de estado sólido. Al facilitar el procesamiento térmico multifuncional, incluida la evaporación térmica rápida (RTE) y el crecimiento de cristales de Bridgman horizontal, el sistema permite a los usuarios explorar estructuras cristalinas de nueva generación y complejas capas de película delgada. La integración de cuarzo de alta pureza y componentes de acero inoxidable diseñados con precisión garantiza que el entorno de procesamiento permanezca libre de contaminación, incluso cuando se opera a temperaturas que alcanzan los 1200°C.
La fiabilidad y la consistencia son los sellos distintivos de esta unidad de procesamiento térmico. Construido con elementos calefactores de grado industrial y un robusto sistema de accionamiento controlado por PLC, ofrece un rendimiento repetible a lo largo de cientos de ciclos. La combinación de una regulación de temperatura PID avanzada y precisión mecánica garantiza que las condiciones experimentales se mantengan con extrema exactitud. Ya sea que se utilice para el desarrollo de prototipos a pequeña escala o para la caracterización fundamental de materiales, este sistema proporciona la estabilidad y el control necesarios para la I+D industrial de vanguardia y la investigación académica de alto nivel.
Características principales
- Mecanismo de desplazamiento interno de precisión: El equipo está equipado con un motor paso a paso especializado de 24VDC y 100W que impulsa la barqueta de muestras dentro del tubo de cuarzo. Esto permite un movimiento lineal controlado de hasta 100 mm a una velocidad constante, lo cual es esencial para la solidificación direccional y la exposición térmica graduada.
- Control de pantalla táctil PLC integrado: Una interfaz digital centralizada gestiona tanto el perfil térmico como la distancia de desplazamiento mecánico. Esta integración permite a los usuarios sincronizar los cambios de temperatura con el posicionamiento de la muestra, un requisito crítico para protocolos complejos de deposición de vapor.
- Capacidad de procesamiento térmico rápido (RTP): Al mover la etapa de muestra hacia adentro o hacia afuera de una zona caliente precalentada, este sistema puede lograr tasas de calentamiento y enfriamiento significativamente más altas que los hornos estacionarios, imitando eficazmente las condiciones de RTP para el recocido de películas delgadas.
- Campo térmico de cuarzo de alta pureza: El sistema utiliza un tubo de procesamiento de cuarzo de primera calidad, que proporciona una excelente inercia química y resistencia al choque térmico. Esto garantiza que no se introduzcan impurezas en la atmósfera de reacción, incluso durante reacciones en fase gaseosa a alta temperatura.
- Control superior de vacío y atmósfera: La unidad cuenta con bridas selladas al vacío con fuelles de acero inoxidable que permanecen herméticos incluso mientras el mecanismo interno está en movimiento. Esto permite un procesamiento estable bajo altos niveles de vacío o entornos de gas inerte controlados.
- Regulación de temperatura PID avanzada: Utilizando un controlador programable de 30 pasos con tecnología de relé de estado sólido, el sistema mantiene una precisión de ±1°C. Esto garantiza una zona de temperatura constante de 60 mm, crítica para mantener tasas de crecimiento de cristales uniformes.
- Ingeniería de horno partido: El diseño de bisagra partida del cuerpo del horno permite un enfriamiento rápido del tubo y facilita el intercambio rápido de muestras o tubos de procesamiento, maximizando el rendimiento del laboratorio.
- Opciones multizona ampliables: Para procesos que requieren gradientes térmicos más complejos, la unidad puede actualizarse a una configuración de doble zona, proporcionando zonas de temperatura constante extendidas o gradientes más pronunciados según lo requiera la aplicación.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio clave |
|---|---|---|
| HPCVD | Deposición física-química de vapor híbrida que involucra gases reactivos y vapor de evaporación. | Control preciso sobre la mezcla de gases y la ubicación de la deposición. |
| RTE | Evaporación térmica rápida donde los materiales se mueven a la zona caliente para un cambio de fase de vapor instantáneo. | Minimiza el estrés térmico en los sustratos y mejora la pureza de la película. |
| Crecimiento Bridgman | Crecimiento de monocristales moviendo un crisol a través de un gradiente térmico controlado. | Mejora la integridad estructural del cristal mediante una solidificación constante. |
| Síntesis de CNT | Síntesis de nanotubos de carbono alineados verticalmente utilizando gases portadores y de reacción. | Entrega uniforme de la fuente de carbono y entorno térmico estable. |
| Recocido de película delgada | Calentamiento y enfriamiento rápido de capas depositadas para modificar la estructura del grano. | Control preciso sobre las transiciones de fase y las propiedades del material. |
| Solidificación direccional | Control de la dirección de enfriamiento de materiales fundidos para influir en la microestructura. | Propiedades mecánicas mejoradas y alineación de granos en aleaciones. |
| Dopaje de semiconductores | Introducción de impurezas en obleas semiconductoras a temperaturas específicas. | Alta uniformidad en la superficie de la muestra mediante control de movimiento. |
| Transporte en fase de vapor | Utilización de agentes de transporte químico para cultivar cristales de alta pureza a partir de vapor. | Excelente control espacial sobre las zonas de fuente y crecimiento. |
Especificaciones técnicas
Configuración del sistema: TU-RT07
| Característica | Detalles de la especificación |
|---|---|
| Fuente de alimentación | 208 - 240 VAC, 50/60Hz, 1.2 KW máx. |
| Temp. de trabajo máx. | 1200°C (corto plazo); 1100°C (continuo) |
| Dimensiones del tubo de cuarzo | 50mm D.E. x 44mm D.I. x 450mm L |
| Longitud de la zona de calentamiento | 200 mm (8") |
| Zona de temperatura constante | 60 mm (±1°C a 1000°C) |
| Control de temperatura | Control automático PID, programable en 30 pasos |
| Precisión de control | ±1°C mediante termopar tipo K |
| Mecanismo de desplazamiento | Motor paso a paso de 24VDC (100W) |
| Distancia máxima de desplazamiento | 100 mm (dentro del tubo sellado al vacío) |
| Velocidad de desplazamiento | 180 mm/min (constante) |
| Bridas de vacío | Abrazadera rápida de 2" con accesorios de 1/4" y válvula de aguja |
| Nivel de vacío | 10^-2 torr (bomba mecánica); 10^-5 torr (turbobomba) |
| Cumplimiento de seguridad | Certificación CE (NRTL/CSA disponible bajo pedido) |
| Barqueta de muestra | Barqueta de minicrisol de 50 x 20 x 20 mm (~20 ml) |
Tasas típicas de calentamiento y enfriamiento (mediante movimiento de la muestra)
| Rango de temperatura | Tasa de calentamiento (máx.) | Tasa de enfriamiento (máx.) |
|---|---|---|
| 950°C - 850°C | 0.5°C/seg | 7°C - 10°C/seg |
| 650°C - 550°C | 1.0°C - 2.0°C/seg | 1.5°C - 2.0°C/seg |
| 250°C - 150°C | 10°C/seg | N/A |
¿Por qué elegir este sistema?
- Diseñado para la precisión: Este sistema no es solo un horno, sino un instrumento de precisión que combina un control térmico de alta exactitud con un movimiento mecánico fiable para obtener resultados científicos repetibles.
- Plataforma de investigación versátil: La capacidad de realizar HPCVD, RTE y crecimiento Bridgman en una sola unidad lo convierte en una solución excepcionalmente rentable para laboratorios de materiales multidisciplinarios.
- Construcción robusta: Utilizando cuarzo de alta pureza y electrónica de grado industrial, el equipo está diseñado para una consistencia operativa a largo plazo bajo condiciones de alto vacío y alta temperatura.
- Soluciones personalizables: Ofrecemos una amplia personalización, incluyendo modificaciones en el soporte de muestras (AIN o grafito), control de desplazamiento de velocidad variable y sistemas de entrega de gas multicanal para satisfacer necesidades de investigación específicas.
- Cumplimiento integral: La certificación CE garantiza que el sistema cumple con rigurosos estándares de seguridad, con certificaciones NRTL o CSA opcionales disponibles para requisitos de laboratorio específicos.
Este horno diseñado con precisión representa una inversión premium en las capacidades de investigación de sus instalaciones. Póngase en contacto con nuestro equipo de ventas técnicas hoy mismo para discutir sus requisitos de proceso específicos o para solicitar una cotización formal para una solución térmica personalizada.
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