Horno de tubo
Horno de tubo de cuarzo de gran diámetro de 1100°C con zona de calentamiento de 24 pulgadas y bridas refrigeradas por agua
Número de artículo: TU-28
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Descripción del producto
Este sistema de procesamiento térmico de alto rendimiento está diseñado para satisfacer las rigurosas demandas de la investigación en ciencia de materiales y la producción piloto industrial. Con un tubo de procesamiento de cuarzo de 8.5 pulgadas de diámetro, el equipo está diseñado para procesos de deposición química de vapor (CVD) que involucran muestras a gran escala o obleas semiconductoras. Su arquitectura robusta y su amplia zona de calentamiento proporcionan la uniformidad térmica necesaria para transformaciones de materiales complejas, asegurando que cada lote cumpla con estrictos estándares de calidad.
En el panorama de la I+D moderna, este sistema sirve como una plataforma versátil para la síntesis de materiales avanzados, incluidos nanomateriales y películas delgadas. Al integrar una cámara de cuarzo de alta pureza con elementos calefactores controlados con precisión, la unidad mantiene un entorno de calidad de sala limpia incluso a temperaturas elevadas. Esto lo convierte en una herramienta indispensable para laboratorios centrados en energía limpia, electrónica y componentes aeroespaciales, donde el control de la contaminación es tan crítico como la precisión de la temperatura.
La fiabilidad es el núcleo del diseño de esta unidad. Construido con componentes de grado industrial de primera calidad y una carcasa de acero de doble capa, garantiza una consistencia operativa en condiciones exigentes. Ya sea realizando ciclos continuos de 24 horas para sinterización a largo plazo o ciclos térmicos rápidos para pruebas de estrés, este equipo proporciona la estabilidad mecánica y térmica necesaria para resultados científicos reproducibles y flujos de trabajo industriales eficientes.
Características principales
- Amplio tubo de procesamiento de cuarzo de 8.5 pulgadas: El tubo de cuarzo fundido de alta pureza proporciona un volumen de procesamiento masivo adecuado para obleas grandes o calcinación de polvo de alta capacidad, asegurando la máxima productividad en entornos de investigación.
- Calentamiento por resistencia avanzado de NiCrAl: Los elementos de hilo de NiCrAl de alto rendimiento están colocados estratégicamente para proporcionar una transferencia de calor eficiente y una temperatura de funcionamiento máxima de 1100°C con una longevidad excepcional.
- Regulación de temperatura PID de precisión: El controlador programable integrado permite hasta 30 segmentos distintos de calentamiento y enfriamiento, proporcionando un control granular sobre el perfil térmico para evitar el sobreimpulso y mantener una precisión de ±1°C.
- Bridas de acero inoxidable refrigeradas por agua: Las bridas con bisagras de alta integridad incluyen canales de refrigeración por agua integrados, que protegen los sellos herméticos durante las ejecuciones a alta temperatura y garantizan que los niveles de vacío se mantengan durante todo el proceso.
- Carcasa de acero de doble capa con refrigeración por ventilador: La estructura externa del horno está diseñada con un espacio de aire protector y ventiladores de refrigeración activos, manteniendo la temperatura de la superficie exterior por debajo de 70°C para la seguridad del operador y la durabilidad del equipo.
- Aislamiento fibroso de alúmina de alta pureza: El uso de aislamiento fibroso de silicato de alúmina de primera calidad maximiza la retención térmica y la eficiencia energética, reduciendo el consumo de energía mientras protege los componentes internos de la fatiga térmica.
- Sistema de monitoreo de termopar dual: Una configuración de termopar dual tipo K proporciona canales separados para el control de temperatura y el monitoreo de seguridad, con una alarma de sobrecalentamiento y termopar roto para una operación a prueba de fallos.
- Gestión de atmósfera versátil: Equipado con una entrada/salida de gas de tubo de compresión de 1/4" y puertos de vacío KF25, este sistema permite un control preciso de la presión interna y la composición de la atmósfera durante el tratamiento térmico.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio clave |
|---|---|---|
| Procesos CVD / PECVD | Síntesis de películas delgadas y nanomateriales en sustratos y obleas de gran diámetro. | Alta pureza y distribución uniforme del gas. |
| Grafitización de carbono | Ordenamiento estructural de carbono dopado con nitrógeno para mejorar la conductividad eléctrica en catalizadores. | Estabilidad de los sitios de clúster Co-N a 1100°C. |
| Recocido de semiconductores | Tratamiento térmico a alta temperatura de obleas de silicio o semiconductores compuestos para reparar defectos cristalinos. | El tubo de gran diámetro acomoda obleas industriales. |
| Síntesis de catalizadores | Optimización de sitios de clúster de cobalto y nitrógeno para mejorar la tolerancia al metanol en celdas de combustible. | Control preciso de temperatura para clústeres uniformes. |
| Sinterización de cerámica | Consolidación de polvos cerámicos técnicos en componentes industriales de alta densidad. | Excelente resistencia al choque térmico del tubo de cuarzo. |
| Calcinación de polvo | Descomposición térmica y purificación de precursores químicos en una atmósfera controlada. | Amplia zona de calentamiento para un alto rendimiento por lote. |
| I+D de baterías de estado sólido | Procesamiento de materiales de electrolitos y electrodos bajo entornos de gas protector de alta pureza. | Sellado hermético robusto para el control de la atmósfera. |
Especificaciones técnicas
| Categoría de parámetro | Detalle de la especificación | Valor / Métrica |
|---|---|---|
| Identificador del modelo | Número de artículo del producto | TU-28 |
| Fuente de alimentación | Voltaje de funcionamiento | 208 - 240VAC, 50/60 Hz |
| Potencia nominal | 8 kVA (50 A) | |
| Rendimiento de temperatura | Temperatura máxima de calentamiento | 1100°C |
| Temperatura de trabajo continua | 400°C - 1050°C | |
| Velocidad máxima de calentamiento | 20°C/min | |
| Velocidad de calentamiento recomendada | <10°C/min | |
| Zona de calentamiento | Longitud total de la zona de calentamiento | 600 mm (24") |
| Zona de temperatura constante | 200 mm (dentro de +/-5°C) | |
| Tubo de procesamiento | Material | Cuarzo fundido de alta pureza |
| Dimensiones | 216mm DE x 208mm DI x 1020mm L | |
| Sistema de control | Tipo de controlador | PID programable (30 segmentos) |
| Precisión de temperatura | +/-1°C | |
| Tipo de termopar | Dual tipo K | |
| Comunicación (opcional) | LabVIEW vía RS-485 (MTS03/MTS01) | |
| Vacío y atmósfera | Presión máxima de trabajo | < 3 psig |
| Puerto de vacío | KF25 | |
| Conexiones de gas | Tubo de compresión de 1/4" | |
| Rango del manómetro | -0.1 a 0.15 MPa | |
| Diseño mecánico | Material de la carcasa | Acero de doble capa con ventiladores de refrigeración |
| Tipo de brida | Acero inoxidable con bisagras (refrigerado por agua) | |
| Aislamiento térmico | Bloques fibrosos de silicato de alúmina | |
| Cumplimiento | Estándares | Certificación CE (NRTL/CSA disponible) |
¿Por qué elegir el TU-28?
Invertir en el sistema TU-28 garantiza que su laboratorio o instalación de producción esté equipado con una solución térmica que prioriza tanto la precisión como la escalabilidad. Esta unidad está diseñada específicamente para aquellos que requieren más que un simple calentamiento estándar; está diseñada para quienes necesitan un entorno controlado y de alta pureza para la innovación de materiales a gran escala. El tubo de 8.5 pulgadas de diámetro proporciona una clara ventaja competitiva, permitiendo la transición de pruebas a pequeña escala a la producción piloto sin necesidad de múltiples unidades más pequeñas.
Nuestro compromiso con la excelencia en ingeniería se refleja en las características de seguridad y la calidad de construcción de este sistema. Desde las bridas refrigeradas por agua que protegen los delicados sellos de vacío hasta la carcasa de doble capa que garantiza un entorno de laboratorio seguro, cada componente se elige por su durabilidad. Al seleccionar este equipo, se beneficia de una plataforma probada utilizada por instituciones de investigación líderes en todo el mundo para la grafitización, CVD e investigación de semiconductores.
Más allá del hardware, ofrecemos soporte técnico integral y una gama de opciones de personalización para garantizar que el horno se integre perfectamente en su flujo de trabajo existente. Ya sea que requiera una integración avanzada de LabVIEW para el registro de datos automatizado o modificaciones específicas de bridas para sistemas de suministro de gas únicos, nuestro equipo de ingeniería está listo para ayudarle. Contáctenos hoy para solicitar una cotización o para discutir una solución térmica personalizada adaptada a los requisitos específicos de su proceso.
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