Horno RTP
Horno deslizante CVD de doble tubo de 100 mm y 80 mm con sistema de vacío y mezcla de gases de 4 canales
Número de artículo: TU-RT12
Envío: Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Descripción del producto
Este sistema de procesamiento térmico de alto rendimiento está diseñado para aplicaciones avanzadas de deposición química de vapor (CVD), específicamente concebido para facilitar el crecimiento de películas delgadas y grafeno sobre láminas metálicas. Al utilizar una arquitectura única de doble tubo, el equipo permite un control preciso sobre el entorno de reacción. La propuesta de valor principal del sistema radica en su capacidad para manejar la preparación de electrodos flexibles sobre sustratos metálicos, un requisito crítico para la próxima generación de investigación en almacenamiento de energía y electrónica. Esta unidad integra calefacción, suministro de gas y control de vacío en una plataforma única y cohesiva, asegurando flujos de trabajo optimizados para científicos de materiales.
El equipo es especialmente adecuado para entornos de I+D industrial y laboratorios académicos centrados en materiales bidimensionales y nanotecnología. Sus casos de uso principales incluyen la producción a gran escala de películas de grafeno y la síntesis de nanoestructuras complejas que requieren un control estricto de la atmósfera. Este sistema proporciona un entorno versátil donde los gases reactivos se dosifican con precisión en un espacio de reacción estrecho de 10 mm entre tubos de cuarzo concéntricos, maximizando la eficiencia del precursor y la uniformidad de la película. El mecanismo deslizante mejora aún más la utilidad de la unidad, permitiendo un ciclado térmico rápido que es esencial para transformaciones de fase específicas y experimentación de alto rendimiento.
Construido con componentes de grado industrial, el horno ofrece una fiabilidad inigualable en condiciones exigentes. El aislamiento de alúmina de alta pureza y las robustas bridas de vacío de acero inoxidable están diseñadas para soportar un funcionamiento continuo a temperaturas elevadas. Cada aspecto de este sistema, desde los controladores digitales de flujo másico hasta la estación de vacío de alta resistencia, refleja un compromiso con la ingeniería de precisión. Los investigadores pueden confiar en esta unidad para obtener resultados consistentes y reproducibles, ya sea realizando tratamientos térmicos rutinarios o complejos procesos de síntesis CVD multietapa en una atmósfera controlada.
Características principales
- Arquitectura concéntrica de doble tubo: El sistema emplea un tubo exterior de 100 mm de diámetro y un tubo interior suspendido de 80 mm de diámetro, creando un espacio de reacción de 10 mm donde las láminas metálicas pueden envolverse para obtener un área superficial y una interacción de gas óptimas para CVD.
- Sistema de riel deslizante dinámico: Un riel deslizante de alta resistencia está integrado en la parte inferior del horno, lo que permite alejar rápidamente la cámara de calentamiento de la zona de muestra. Esto permite un enfriamiento rápido o tasas de calentamiento veloces que son imposibles con hornos estacionarios.
- Suministro de gas preciso de 4 canales: La estación de mezcla de gases integrada cuenta con cuatro controladores de flujo másico (MFC) digitales con rangos variables (100 a 500 SCCM), lo que permite la mezcla compleja de gases precursores y portadores con una precisión de ±1% a escala completa.
- Regulación térmica PID avanzada: El equipo utiliza un sofisticado controlador PID con 30 segmentos programables, proporcionando un control meticuloso sobre las tasas de calentamiento, los tiempos de permanencia y las curvas de enfriamiento para mantener una estabilidad de temperatura de ±1°C.
- Monitoreo integrado de vacío y presión: Se incluye una estación de vacío completa, que cuenta con una bomba de paletas rotativas de dos etapas y un medidor de vacío digital capaz de medir desde 10^-4 hasta 1000 Torr, asegurando un entorno de reacción limpio y controlado.
- Bridas robustas refrigeradas por agua: Las bridas de acero inoxidable 304 están equipadas con camisas de refrigeración por agua integradas, protegiendo los sellos de alto vacío y asegurando la integridad estructural durante operaciones prolongadas a alta temperatura.
- Aislamiento térmico optimizado: La cámara de calentamiento está construida con aislamiento fibroso de Al2O3 de alta pureza, que minimiza la pérdida de calor y proporciona una excelente uniformidad de temperatura en toda la zona de calentamiento constante.
- Configuraciones de calentamiento escalables: Disponible en configuraciones de zona de calentamiento única y doble, el sistema permite el control independiente de gradientes de temperatura, lo cual es esencial para transportar precursores o gestionar reacciones multietapa.
- Seguridad y automatización: Las alarmas de sobretemperatura integradas y las funciones de protección automática permiten que el sistema funcione de forma segura sin supervisión constante, aumentando la eficiencia del laboratorio y reduciendo el riesgo operativo.
- Conectividad industrial Swagelok: Todas las entradas y salidas de gas utilizan conectores de tubo Swagelok de 1/4", lo que garantiza un rendimiento sin fugas y compatibilidad con la infraestructura estándar de manejo de gases industriales.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio clave |
|---|---|---|
| Crecimiento de grafeno | Síntesis CVD de grafeno de gran área sobre láminas de cobre o níquel envueltas alrededor del tubo interior. | Alta uniformidad y producción escalable para electrodos transparentes. |
| I+D de electrodos flexibles | Recubrimiento de películas delgadas sobre láminas metálicas para su uso en investigación de baterías flexibles y supercondensadores. | Control preciso sobre el espesor de la película y la adhesión en sustratos metálicos. |
| Dicalcogenuros de metales de transición | Síntesis de MoS2, WS2 y otros semiconductores 2D mediante transporte de vapor controlado. | La configuración de doble zona permite el control independiente de las temperaturas del precursor y del sustrato. |
| Síntesis de nanotubos de carbono | Crecimiento de arreglos de nanotubos de carbono alineados o aleatorios sobre varias superficies catalíticas. | El procesamiento térmico rápido mediante el mecanismo deslizante permite un control preciso sobre la morfología del tubo. |
| Deposición de fósforo | Calentamiento independiente de fuentes de fósforo aguas arriba mientras se mantienen las muestras objetivo aguas abajo. | Deposición uniforme y reacción química profunda en estructuras 3D complejas. |
| Fabricación de nanoparedes huecas | Preparación de estructuras basadas en fosfuro de cobalto para aplicaciones catalíticas de alta actividad. | Mantiene una alta actividad catalítica mediante un control uniforme de la composición. |
| Estudios de enfriamiento térmico | Enfriamiento rápido de muestras desde altas temperaturas a temperatura ambiente deslizando el horno. | Permite el estudio de fases de alta temperatura y cinética de solidificación rápida. |
| CVD de recubrimiento protector | Deposición de capas protectoras cerámicas o metálicas sobre componentes industriales. | El entorno de alto vacío garantiza una alta pureza y una adhesión superior del recubrimiento. |
Especificaciones técnicas
| Categoría de especificación | Parámetro | TU-RT12-S (Zona única) | TU-RT12-D (Doble zona) |
|---|---|---|---|
| Estructura del horno | Material de aislamiento | Fibra de Al2O3 de alta pureza | Fibra de Al2O3 de alta pureza |
| Material del tubo | Cuarzo fundido de alta pureza | Cuarzo fundido de alta pureza | |
| Dimensiones tubo exterior | DE 100 x DI 96 x 1400 mm | DE 100 x DI 96 x 1400 mm | |
| Dimensiones tubo interior | DE 80 x DI 75 x 1800 mm | DE 80 x DI 75 x 1800 mm | |
| Mecanismo deslizante | Riel manual con abrazadera de parada | Rieles deslizantes de doble dirección | |
| Rendimiento térmico | Temperatura máx. de operación | 1200°C | 1200°C |
| Temperatura continua | 1100°C | 1100°C | |
| Precisión de temperatura | ±1°C | ±1°C | |
| Longitud de zona de calentamiento | 440 mm | 200 mm + 200 mm (400 mm total) | |
| Zona de temperatura constante | 120 mm (±1°C) | 250 mm (si las zonas están sincronizadas) | |
| Sistema de gas y vacío | Canal MFC 1 | 0 ~ 100 SCCM | 0 ~ 100 SCCM |
| Canal MFC 2 | 0 ~ 200 SCCM | 0 ~ 200 SCCM | |
| Canal MFC 3 | 0 ~ 200 SCCM | 0 ~ 200 SCCM | |
| Canal MFC 4 | 0 ~ 500 SCCM | 0 ~ 500 SCCM | |
| Tanque de mezcla de gas | 80 mL | 80 mL | |
| Nivel de vacío | 10^-2 Torr (Mecánico) | 10^-2 Torr (Mecánico) | |
| Conexiones de vacío | Salida KF25 | Salida KF25 | |
| Control y electricidad | Tipo de controlador | PID de 30 segmentos con RS485 | Controladores PID duales de 30 segmentos |
| Puerto de comunicación | RS485 | RS485 | |
| Voltaje | 208-240VAC, 50/60Hz | 208-240VAC, 50/60Hz | |
| Consumo de energía | 2.5 KW (Disyuntor de 20A) | 4.0 KW (Disyuntor de 50A) | |
| Conexión de alimentación | Cable de 10 pies (sin enchufe) | Cable de 10 pies (sin enchufe) | |
| Sistema de refrigeración | Refrigeración de bridas | Camisas refrigeradas por agua | Camisas refrigeradas por agua |
| Refrigeración interna | Ventiladores montados en la parte inferior | Ventiladores montados en la parte inferior |
¿Por qué elegir el TU-RT12?
- Ingeniería superior para investigación en grafeno: El diseño de doble tubo está optimizado específicamente para el envoltorio de láminas estilo rollo a rollo, proporcionando la configuración más eficiente para la síntesis de grafeno de gran área y materiales 2D disponible a escala de laboratorio.
- Agilidad térmica inigualable: El diseño del horno deslizante proporciona a los investigadores la capacidad crítica de lograr tasas de enfriamiento ultrarrápidas o realizar la transición de muestras entre zonas de temperatura al instante, lo cual es vital para controlar el crecimiento de grano y la pureza de fase.
- Integración llave en mano de gas y vacío: A diferencia de las configuraciones modulares que requieren un ensamblaje extenso, este sistema llega con una estación MFC de 4 canales totalmente integrada y una estación de bomba de vacío a juego, asegurando un control de atmósfera de alta pureza desde el primer día.
- Construido para uso industrial a largo plazo: Desde el carro móvil de alta resistencia hasta las bridas de acero inoxidable de alto grado y el aislamiento de Al2O3, cada componente se selecciona por su durabilidad y rendimiento constante en entornos de I+D de alto ciclo de trabajo.
- Precisión y personalización: Con opciones para control de zona única o doble y la capacidad de integrar controladores Eurotherm o configuraciones de gas personalizadas, este sistema puede adaptarse a los requisitos exactos de su proceso CVD específico.
Contacte a THERMUNITS hoy para una consulta técnica o para recibir una cotización formal para los requisitos de procesamiento térmico personalizados de su laboratorio.
SOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Horno de tubo deslizante doble de 1200 °C máx. con bridas de tubo de 50 mm para CVD
Este horno de tubo deslizante doble de 1200 °C cuenta con bridas de tubo de cuarzo de 50 mm diseñadas específicamente para procesos de CVD de alta precisión. Acelere la I+D industrial mediante un calentamiento y enfriamiento rápidos a través del deslizamiento, garantizando una síntesis de materiales superior, resultados consistentes y un rendimiento excelente en la deposición de películas delgadas.
Horno CVD giratorio de dos zonas con sistema automático de alimentación y recepción para procesamiento de polvos
Maximice la eficiencia de la investigación de materiales con este horno CVD giratorio de dos zonas que cuenta con sistemas automáticos de alimentación y recepción. Perfecto para la producción de electrodos de baterías de iones de litio y calcinación de compuestos inorgánicos en entornos de temperatura y atmósfera de control preciso para I+D industrial.
Horno tubular de doble zona de alta temperatura de 1700C para investigación en ciencia de materiales y deposición química de vapor industrial
Este horno tubular de doble zona de alta temperatura de 1700C ofrece control independiente para gradientes térmicos precisos, ideal para CVD, PVD y crecimiento cristalino en investigación avanzada de materiales, con elementos MoSi2 e integración robusta de tubo de alúmina sellado al vacío para una fiabilidad industrial.
Horno de tubo de calentamiento rápido de doble zona, sistema de atmósfera de vacío de alta temperatura
Este horno de tubo de calentamiento rápido de doble zona de alto rendimiento ofrece una temperatura máxima de 1200 °C con tasas de rampa rápidas de 100 °C por minuto, control PID de precisión y capacidades de atmósfera de vacío para investigación avanzada de materiales, sinterización y aplicaciones de deposición química de vapor.
Horno de tubo deslizante de 1200 °C para procesamiento térmico rápido y crecimiento de grafeno por CVD con capacidad de 100 mm de diámetro exterior
Acelere su investigación con este horno de tubo deslizante de 1200 °C diseñado para procesamiento térmico rápido y aplicaciones de CVD. Cuenta con control PLC de alta precisión y un riel deslizante motorizado para ciclos de calentamiento y enfriamiento ultrarrápidos en laboratorios de ciencia de materiales avanzada e I+D industrial.
Horno de Tubo de 4 Pulgadas de Alta Temperatura 1200°C con Brida Deslizante para Sistemas CVD
Este horno de tubo de 4 pulgadas de alta temperatura 1200°C cuenta con bridas deslizables para una carga rápida de muestras y compatibilidad con alto vacío. Está diseñado para procesos CVD de precisión e investigación avanzada de materiales, ofreciendo un rendimiento excepcionalmente confiable en entornos de laboratorio exigentes.
Horno de tubo deslizante de doble zona de temperatura de 1200 °C para el crecimiento de materiales 2D y síntesis TCVD
Optimice la síntesis avanzada de materiales 2D utilizando este sistema de doble horno de 1200 °C que cuenta con una zona de calentamiento deslizante para un enfriamiento ultrarrápido, control de temperatura PID independiente y procesamiento en cuarzo de alta pureza, diseñado para deposición química de vapor térmica (TCVD) de precisión e investigación y desarrollo.
Horno de tubo deslizante dual de 1200 °C con tubos y bridas dobles para procesos PECVD
Acelere la investigación de materiales con este horno de tubo deslizante dual de 1200 °C diseñado para procesos precisos de PECVD. Con un generador de plasma de RF de alta potencia y capacidades de procesamiento térmico rápido, ofrece una uniformidad de película excepcional y resultados consistentes para aplicaciones avanzadas de I+D industrial.
Horno de Tubo de Doble Zona 1100°C con Tubo de Cuarzo de 11 Pulgadas y Bridas de Vacío para Procesamiento de Objetivos de 8 Pulgadas
Este horno de tubo de doble zona de alta temperatura avanzado está diseñado con un tubo de cuarzo de 11 pulgadas y una zona de calefacción de 24 pulgadas para ofrecer una uniformidad térmica excepcional para el recocido de obleas de 8 pulgadas, sinterizado de materiales y equipos de investigación especializados en deposición química de vapor para entornos industriales y de laboratorio.
Horno de tubo de doble zona de temperatura y doble cubierta para CVD de alta temperatura y recocido al vacío
Horno de tubo profesional de doble zona de temperatura con elementos calefactores Kanthal A1 y control PID avanzado para aplicaciones de investigación e industriales. Este sistema proporciona un procesamiento térmico preciso para CVD, recocido al vacío y sinterización de materiales con una fiabilidad inigualable.
Horno de tubo 1200°C con deslizamiento magnético interno de muestras para deposición por vaporización directa y procesamiento térmico rápido
Este horno de tubo profesional de 1200°C cuenta con un mecanismo manual de deslizamiento magnético de muestras diseñado específicamente para la deposición por vaporización directa y el procesamiento térmico rápido. Garantiza un control térmico preciso y un crecimiento de material uniforme para aplicaciones exigentes de investigación y ciencia de materiales industriales.
Horno PECVD compacto de auto-deslizamiento máximo de 1200°C con tubo de 2 pulgadas y bomba de vacío
Este horno PECVD compacto de auto-deslizamiento de 1200°C cuenta con un tubo de 2 pulgadas y una bomba de vacío integrada. Ideal para deposición de películas delgadas a baja temperatura, utiliza plasma RF de 300 W para un control superior de la estequiometría y un procesamiento térmico rápido en investigación avanzada de materiales industriales.
Horno de tubo de vacío de doble zona de alta temperatura para investigación de materiales y procesamiento CVD
Mejore las capacidades de su laboratorio con este horno de tubo de vacío de doble zona de alta precisión. Diseñado para la investigación avanzada de materiales y procesos CVD, cuenta con control de temperatura independiente, tasas de calentamiento rápidas y un sellado al vacío robusto para obtener resultados de tratamiento térmico de grado industrial consistentes.
Horno de Tubo Automático Deslizante de Doble Zona de Alta Temperatura 1200°C para Crecimiento de Dicalcogenuros de Metales de Transición 2D e Investigación de Sublimación de Materiales
Domine la síntesis de materiales 2D con este sistema de doble horno deslizante automático de 1200°C diseñado para el crecimiento de TMD. Cuenta con zonas independientes de sublimación y deposición para un control térmico preciso y velocidades de enfriamiento rápidas, que garantizan resultados de investigación de alta calidad en la producción de cristales de películas delgadas.
Horno de tubo interno deslizante de 1200 °C para deposición de películas delgadas en atmósfera controlada e investigación de sublimación de materiales
Este horno de tubo deslizante de 1200 °C cuenta con un mecanismo interno automático de crisol para un posicionamiento preciso de la muestra en atmósferas controladas. Ideal para aplicaciones PVD y DVD, garantiza una consistencia superior en el crecimiento de películas y una eficiencia de procesamiento térmico para laboratorios de investigación de materiales avanzados.
Horno de tubo dividido de doble zona de alta temperatura para sinterización en atmósfera avanzada y aplicaciones de CVD al vacío
Mejore su investigación de materiales con este horno de tubo dividido de doble zona de 1400 °C de alta precisión. Con control de temperatura independiente, capacidades de sinterización en atmósfera y una estabilidad térmica superior, es la solución ideal para experimentos avanzados de CVD y proyectos de procesamiento térmico industrial.
Horno de tubo de cuarzo de doble zona con 80 mm de diámetro, temperatura máxima de 1200°C, mezclador de gas de 3 canales y sistema de bomba de vacío
Este horno de tubo de cuarzo de doble zona avanzado cuenta con un tubo de 80 mm de diámetro, mezcla de gas de tres canales integrada y un sistema de vacío de alto rendimiento. Ideal para CVD e investigación de materiales, ofrece procesamiento térmico preciso a 1200°C y capacidades de monitoreo de vacío anticorrosivo.
Horno de Tubo Vertical Abrible 0-1700°C Sistema de Laboratorio de Alta Temperatura para CVD y Tratamiento Térmico al Vacío
Diseñado para investigación avanzada de materiales, este horno de tubo vertical abrible de 1700°C cuenta con calentamiento preciso de tres zonas y capacidades de temple rápido. Ideal para procesos CVD y recocido al vacío, ofrece fiabilidad de grado industrial, control atmosférico y flexibilidad modular para entornos de I+D exigentes.
Horno de tubo de alta temperatura de 1700 °C con sistema de bomba turbomolecular de alto vacío y mezclador de gas con controlador de flujo másico multicanal
Este avanzado horno de tubo de alta temperatura de 1700 °C integra un sistema de bomba de alto vacío turbomolecular de precisión y un mezclador de gas con controlador de flujo másico multicanal, ofreciendo un rendimiento excepcional para sofisticados procesos de CVD, difusión e investigación de materiales en entornos exigentes de I+D industrial.
Horno de tubo rotatorio CVD de dos zonas de 4 pulgadas para síntesis de materiales de batería de alta temperatura y calcinación de materiales avanzados
Este horno de tubo rotatorio CVD de dos zonas de alto rendimiento proporciona un procesamiento térmico de precisión de hasta 1200 °C. Ideal para la investigación de materiales de batería, cuenta con rotación variable, inclinación ajustable y control PID de doble zona para una uniformidad superior en la calcinación de compuestos inorgánicos y la síntesis de ánodos de silicio-carbono.
