Horno RTP
Horno PECVD compacto de auto-deslizamiento máximo de 1200°C con tubo de 2 pulgadas y bomba de vacío
Número de artículo: TU-RT13
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Descripción general del producto
Este sistema de procesamiento térmico de alto rendimiento es una solución compacta de deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD), diseñada específicamente para la investigación avanzada de materiales y el desarrollo de películas delgadas. Al integrar un potente generador de plasma RF con un horno de tubo dividido de precisión, el equipo permite a los investigadores lograr una calidad de película superior a temperaturas significativamente más bajas que los procesos CVD convencionales. Su propuesta de valor principal reside en su exclusivo mecanismo deslizante, que permite mover rápidamente la zona de calentamiento hasta la ubicación de la muestra, facilitando una exposición instantánea a alta temperatura y ciclos acelerados de enfriamiento para un control sin precedentes de la microestructura y la formación de fases.
Diseñado principalmente para I+D de laboratorio y ciencia de materiales industrial, el sistema es ideal para depositar una variedad de películas, incluidas óxidos de silicio, nitruros y silicio amorfo. Su versatilidad lo convierte en una pieza fundamental para laboratorios especializados en semiconductores, fotovoltaica y nanotecnología. Su tamaño compacto permite una integración fluida en entornos de laboratorio existentes sin sacrificar las capacidades de alto vacío y alta temperatura requeridas para la síntesis de materiales de grado profesional.
La fiabilidad es el núcleo del diseño de esta unidad. Construido con componentes de grado industrial, incluido un robusto generador RF de 13,56 MHz y tubos de proceso de cuarzo de alta pureza, el sistema ofrece un rendimiento constante bajo ciclos de trabajo exigentes. La integración de bridas de alto vacío y una bomba de vacío de dos etapas garantiza un entorno limpio y controlado para procesos sensibles de deposición química de vapor, brindando a los investigadores la confianza para ejecutar protocolos experimentales complejos de múltiples etapas con precisión repetible.
Características principales
- Mecanismo integrado de auto-deslizamiento: El horno está montado sobre un sistema de rieles de precisión de alta resistencia, lo que permite la traslación rápida de la zona de calentamiento. Esta ingeniería permite un calentamiento y enfriamiento instantáneos de la muestra, lo cual es fundamental para controlar el crecimiento de grano y apagar fases metaestables.
- Generación de plasma RF de alta eficiencia: Equipado con un generador RF de 300 W que opera a 13,56 MHz, el sistema genera una descarga de plasma estable. Esto permite que las reacciones químicas ocurran a temperaturas reducidas del sustrato, protegiendo materiales sensibles al calor y reduciendo el estrés térmico en las películas depositadas.
- Gestión precisa de la temperatura: El equipo utiliza un sistema de calentamiento de 300 vatios controlado por un controlador PID digital programable de 30 segmentos. Esto garantiza una precisión de ±1°C y permite ejecutar automáticamente perfiles térmicos complejos, incluidas fases de rampa, mantenimiento y enfriamiento.
- Integridad de vacío superior: Con bridas de vacío de acero inoxidable 304 con sellos dobles de O-ring, el sistema alcanza un estado de alto vacío de 3 x 10E-3 torr. La inclusión de un medidor Pirani digital y válvulas de aguja de alta calidad permite un control meticuloso sobre la atmósfera de proceso.
- Diseño de horno dividido: El cuerpo del horno está diseñado como una unidad de bisagra dividida, lo que facilita la carga y descarga de muestras, el reemplazo rápido del tubo de proceso y un enfriamiento natural más rápido cuando el mecanismo deslizante no está en uso.
- Control mejorado de la estequiometría: Al manipular la potencia del plasma, los caudales de gas y la presión, los usuarios pueden ejercer un control preciso sobre la composición química y el estrés de la película de los materiales depositados, convirtiéndolo en una herramienta altamente flexible para aplicaciones de recubrimiento especializadas.
- Seguridad y cumplimiento robustos: El sistema cuenta con certificación CE e incorpora funciones de protección como un eliminador de niebla de aceite para la bomba de vacío y opciones de monitoreo de oxígeno para evitar la oxidación no deseada durante ciclos de deposición sensibles.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio principal |
|---|---|---|
| Dieléctricos para semiconductores | Deposición de capas de SiO2, Si3N4 y SiOxNy para aislamiento de compuerta y pasivación. | Excelente conformidad y alta resistencia dieléctrica a bajas temperaturas de proceso. |
| Recubrimientos fotovoltaicos | Aplicación de recubrimientos antirreflectantes y capas de silicio amorfo (a-Si:H) para la eficiencia de celdas solares. | Mayor absorción de luz y reducción de la recombinación superficial mediante propiedades ópticas ajustables. |
| Fabricación MEMS | Creación de capas estructurales y sacrificables para sistemas microelectromecánicos. | La deposición de películas con bajo estrés evita la deformación de microestructuras delicadas. |
| Nanomateriales de carbono | Crecimiento de nanotubos de carbono (CNTs) y grafeno mediante síntesis asistida por plasma. | Crecimiento controlado a temperaturas más bajas que la CVD térmica, lo que permite una selección más amplia de sustratos. |
| Películas delgadas ópticas | Deposición de recubrimientos ópticos multicapa con índices de refracción específicos para lentes y sensores. | Control preciso de la estequiometría y del espesor de la película para un rendimiento óptico predecible. |
| Pasivación protectora | Recubrimiento de componentes electrónicos sensibles para protegerlos contra la humedad y la corrosión química. | Cobertura uniforme, sin poros, sobre geometrías 3D complejas y cables de conexión. |
Especificaciones técnicas
| Componente | Parámetro | Especificación (Modelo: TU-RT13) |
|---|---|---|
| Unidad de horno | Longitud de la zona de calentamiento | 8" (200 mm) |
| Zona de temperatura constante | 2.3" (60 mm) dentro de +/- 1°C a 1000°C | |
| Temperatura máxima de trabajo | 1200°C (por < 60 min) | |
| Temperatura continua | 1100°C | |
| Dimensiones del tubo | Cuarzo de alta pureza, 2" D.E. x 1.7" D.I. x 39.4" L | |
| Control de temperatura | PID programable de 30 segmentos | |
| Potencia de entrada | 208 – 240V CA, 1.2kW | |
| Generador RF | Potencia de salida | 5 - 300W ajustable, estabilidad de ± 1% |
| Frecuencia RF | 13.56 MHz ± 0.005% | |
| Potencia reflejada | 200W máx. | |
| Adaptación / Puerto | Automática / hembra tipo N (50 Ω) | |
| Ruido / Refrigeración | <50 dB / refrigerado por aire | |
| Sistema de vacío | Tipo de bomba de vacío | De paletas rotativas de dos etapas, 220 L/min (7.8 CFM) |
| Nivel máximo de vacío | 3 x 10E-3 torr | |
| Potencia de la bomba | 208 - 240V, 750W máx. | |
| Material de la brida | Acero inoxidable 304 con accesorios KF-25/KF-16 | |
| Monitoreo | Medidor Pirani digital integrado | |
| Datos físicos | Dimensiones totales | 1500mm x 600mm x 1200mm (L x A x H) |
| Peso neto | 350 lbs | |
| Peso de envío | 480 lbs | |
| Cumplimiento | Certificación CE (NRTL/TUV disponible bajo solicitud) |
Por qué elegir este sistema PECVD
- Versatilidad térmica inigualable: La combinación de un riel auto-deslizante y la deposición mejorada por plasma permite una ventana experimental más amplia que los hornos estándar, admitiendo tanto el procesamiento térmico rápido como las reacciones químicas a baja temperatura.
- Ingeniería de precisión: Cada componente, desde el generador RF de 13,56 MHz hasta el conjunto de vacío de acero inoxidable, se selecciona por su capacidad para mantener tolerancias industriales estrictas durante un funcionamiento prolongado.
- Integración integral: Este sistema se entrega como una solución completa que incluye el horno, el generador de plasma, la bomba de vacío y el hardware de monitoreo, reduciendo el tiempo de instalación y garantizando la compatibilidad de los componentes.
- Escalable y personalizable: Con opciones para estaciones de mezcla de gases multicanal, sistemas de vaporización de líquidos y control de software avanzado, la unidad puede adaptarse para cumplir presupuestos de investigación y requisitos técnicos específicos.
- Fiabilidad comprobada: Construido para superar los estándares de laboratorio, este equipo cuenta con el respaldo de una red global de servicio y un compromiso con la fabricación de alta calidad, garantizando que su inversión en I+D esté protegida.
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