Horno RTP
Horno de Carga Inferior con Atmósfera Controlada para Procesamiento Térmico Rápido a 1100°C con Tasa de Calentamiento de 50°C por Segundo para Recocido de Obleas
Número de artículo: TU-RT29
Envío: Contáctanos para obtener detalles de envío. ¡Disfruta! Garantía de envío a tiempo.
Descripción General del Producto


Este sistema de procesamiento térmico rápido (RTP) de alto rendimiento representa un avance significativo en la tecnología de calentamiento de la ciencia de materiales. Diseñado como una unidad completamente automática de carga inferior, proporciona a investigadores e ingenieros industriales la capacidad de lograr gradientes térmicos extremos que los hornos de mufla o tubo convencionales no pueden alcanzar. Mediante el uso de una sofisticada matriz de calentamiento por infrarrojos de onda corta, el equipo puede aumentar las temperaturas a velocidades de hasta 50°C por segundo, convirtiéndolo en una herramienta indispensable para procesos que requieren un control cinético preciso y una exposición mínima al presupuesto térmico. La configuración de carga inferior está específicamente diseñada para facilitar una integración perfecta con sistemas de manejo automatizados, asegurando que muestras delicadas—incluyendo obleas semiconductoras de hasta 6 pulgadas—sean manipuladas con el máximo cuidado y consistencia.
Utilizado principalmente en la fabricación de semiconductores, investigación avanzada en catálisis y desarrollo de películas delgadas, este sistema sobresale en entornos donde el rendimiento y la reproducibilidad son primordiales. La combinación de un tubo de cuarzo de gran diámetro y un sistema de bridas hermético permite el procesamiento bajo atmósferas estrictamente controladas o condiciones de alto vacío. Ya sea que el objetivo sea la preparación de catalizadores de átomos únicos o el recocido rápido de componentes electrónicos de alto valor, esta unidad proporciona un entorno estable y repetible que cumple con las rigurosas demandas de la I+D industrial moderna. La ingeniería robusta asegura que, incluso bajo el estrés del ciclado térmico rápido, el sistema mantenga su integridad estructural y precisión, proporcionando confiabilidad a largo plazo para operaciones de laboratorio continuas.
Diseñado para el futuro de los laboratorios autónomos, el sistema cuenta con una arquitectura de control integral que soporta la sincronización de múltiples unidades. Esto permite que un solo operador o una computadora centralizada gestione toda una flota de hornos, aumentando significativamente la productividad de los departamentos de tratamiento térmico. La capacidad del equipo para comunicarse con sistemas robóticos externos lo transforma de un horno independiente a un nodo crítico en una línea de producción completamente automatizada. Este enfoque en la conectividad, combinado con un aislamiento premium y una regulación de potencia precisa, posiciona al sistema como una inversión de primer nivel para instalaciones que buscan cerrar la brecha entre el descubrimiento experimental y la implementación a escala industrial.
Características Clave
- Calentamiento por Infrarrojos de Onda Corta Ultra Rápido: Equipado con una matriz de infrarrojos de 12 lámparas con un total de 18 kW de potencia, este sistema alcanza una tasa máxima de calentamiento de 50°C/s, permitiendo un procesamiento térmico rápido que minimiza la difusión de dopantes y optimiza el crecimiento de grano en películas delgadas.
- Mecanismo Automatizado de Carga Inferior: El sistema de elevación de ingeniería de precisión automatiza la carga y descarga de muestras, reduciendo el riesgo de errores de manejo manual y proporcionando la interfaz física necesaria para una integración robótica completa.
- Control Avanzado de Atmósfera y Vacío: Con un sistema de bridas de acero inoxidable refrigerado por agua y un controlador de flujo másico (MFC) integrado, la unidad mantiene entornos estables de micro presión positiva o alto vacío para proteger materiales sensibles de la oxidación.
- Flujo de Trabajo Autónomo de Alto Rendimiento: El sistema soporta software de código abierto y protocolos de comunicación estándar (TCP/IP, Modbus), permitiendo que una sola computadora portátil gestione múltiples unidades y se coordine con brazos robóticos para el procesamiento autónomo de muestras las 24 horas del día, los 7 días de la semana.
- Gestión de Temperatura PID Sofisticada: Un controlador programable inteligente de 50 segmentos utiliza una regulación de potencia SCR de alta precisión para mantener una precisión de ±1°C, con una ruta de actualización opcional a ±0.1°C para los requisitos de metrología más exigentes.
- Gestión Térmica de Doble Capa: La cámara del horno utiliza una estructura de doble capa con un sistema de refrigeración por aire integrado, asegurando que el exterior permanezca seguro al tacto mientras protege los componentes internos de las tensiones de las operaciones a alta temperatura.
- Adquisición de Datos Integrada: Un software integral registra continuamente la temperatura, presión y tasas de flujo de gas, proporcionando un gemelo digital completo del ciclo térmico para garantía de calidad y documentación de I+D.
- Aislamiento de Fibra de Alúmina de Alta Pureza: La zona de calentamiento está revestida con fibra de alúmina premium, que ofrece una resistencia térmica y eficiencia energética superiores, asegurando que la temperatura máxima de 1100°C se alcance rápidamente y se mantenga con una pérdida de calor mínima.
Aplicaciones
| Aplicación | Descripción | Beneficio Clave |
|---|---|---|
| Recocido de Obleas Semiconductoras | Recocido térmico rápido de obleas de Si o SiC de hasta 6 pulgadas para activar dopantes o reparar daños en la red cristalina. | El presupuesto térmico mínimo evita la difusión no deseada de dopantes. |
| Catálisis de Átomos Únicos | Perfiles de calentamiento especializados requeridos para sintetizar y estabilizar catalizadores de átomos únicos en varios sustratos. | Las tasas de enfriamiento rápido evitan la agregación de átomos metálicos. |
| Cristalización de Películas Delgadas | Procesamiento térmico rápido de películas delgadas funcionales para celdas solares, sensores o tecnologías de pantalla. | Optimiza el tamaño de grano y la cristalinidad mediante un control cinético preciso. |
| Sinterizado de Alto Rendimiento | Sinterizado automatizado de compactos de polvo cerámico o metálico utilizando intercambio de muestras robótico. | Reduce drásticamente los tiempos de ciclo y los costos laborales en producción piloto. |
| Oxidación Térmica Rápida | Crecimiento controlado de capas delgadas de óxido en superficies de silicio bajo atmósferas de oxígeno de alta pureza. | Uniformidad de espesor superior en toda la superficie de la muestra. |
| Siliciuración de Contacto | Formación de contactos de siliciuro de metal de baja resistencia en el procesamiento CMOS avanzado. | El mantenimiento preciso de la temperatura asegura una formación de fase óptima. |
| Recuperación de Implantación Iónica | Recocido post-implantación para restaurar la estructura cristalina y activar eléctricamente los iones implantados. | El aumento de velocidad rápido permite un procesamiento de alto volumen eficiente. |
Especificaciones Técnicas
Sistema del Horno (Modelo: TU-RT29)
| Parámetro | Especificaciones |
|---|---|
| Fuente de Alimentación | CA trifásica 208V, 50/60Hz |
| Potencia Máxima | 18 kW |
| Temperatura Máxima de Operación | 1100℃ (duración ≤ 30 minutos) |
| Temperatura de Operación Continua | 1000℃ |
| Elementos Calefactores | 12 Lámparas de Infrarrojos de Onda Corta (1.5 kW cada una) |
| Dimensiones de la Zona de Calentamiento | Φ210mm × 100mm |
| Tamaño del Tubo de Cuarzo | Φ200mm |
| Tasa de Calentamiento Recomendada | 10℃/s |
| Tasa Máxima de Calentamiento | 50℃/s (de temperatura ambiente a 900℃) |
| Tasa de Enfriamiento (Sellado) | 800℃ a 350℃: 55℃/min; 350℃ a 200℃: 5℃/min |
| Tasa de Enfriamiento (Abierto) | 800℃ a 350℃: 200℃/min; 350℃ a 50℃: 35℃/min |
| Control de Temperatura | Control Automático PID, programable de 50 segmentos |
| Precisión de Control | ±1℃ (Actualización opcional a ±0.1℃ disponible) |
| Control de Presión | Micro presión positiva (103,000–120,000 Pa) |
| Controlador de Flujo Másico | MFC integrado de 0-5000 sccm |
| Interfaz de Vacío | Puerto de vacío KF25 reservado; Bridas de acero inoxidable refrigeradas por agua |
Sistema de Asistencia Robótica Opcional
| Característica | Datos de Rendimiento |
|---|---|
| Carga Nominal | 5 kg |
| Radio de Trabajo | 900 mm |
| Alcance Máximo del Brazo | 1096 mm |
| Precisión de Posicionamiento Repetitivo | ±0.02 mm |
| Protocolos de Comunicación | TCP/IP, Modbus, Red Inalámbrica |
| Consumo de Energía | 150W (Típico) |
Sistemas de Enfriamiento y Vacío Opcionales
| Accesorio | Modelo/Especificación |
|---|---|
| Enfriador Recirculante | KJ6500: Capacidad de Enfriamiento 51880 BTU/h; Compresor de 4.6-5.12 kW |
| Bomba de Vacío Mecánica | Alcanza un nivel de vacío de 10⁻² Torr |
| Bomba de Vacío Molecular | Alcanza un nivel de vacío de 10⁻⁴ Torr |
| Bomba de Paletas de Servicio Pesado | Certificada NRTL, 240 L/m con Filtro de Escape |
Por Qué Elegirnos
Elegir este sistema de procesamiento térmico rápido significa invertir en una plataforma diseñada tanto para una precisión extrema como para una eficiencia a escala industrial. La ventaja central radica en su tecnología de calentamiento por infrarrojos de onda corta especializada, que proporciona un nivel de control térmico y velocidad que los hornos calentados por resistencia tradicionales no pueden igualar. Esta capacidad es esencial para la ciencia de materiales moderna, donde la diferencia entre un avance y un fracaso a menudo depende de unos segundos de exposición o de un solo grado de variación de temperatura. Además, la arquitectura de carga inferior no es solo una conveniencia; es una elección de diseño fundamental que permite la transición a la I+D autónoma, permitiendo que su laboratorio opere las 24 horas del día con una intervención humana mínima.
Cada componente del sistema, desde el tubo de cuarzo de alta pureza hasta la fuente de alimentación regulada por SCR, es seleccionado por su capacidad para soportar las tensiones del ciclado térmico rápido. Este enfoque en la durabilidad asegura que su inversión continúe funcionando con alta precisión a lo largo de años de servicio, manteniendo la consistencia de sus datos y la calidad de su producción. Con opciones modulares para robótica, enfriamiento avanzado e integración de alto vacío, este equipo puede adaptarse para satisfacer sus requisitos de proceso específicos hoy y evolucionar con sus objetivos de investigación mañana.
Póngase en contacto con nuestro equipo de ventas técnicas hoy mismo para obtener un presupuesto detallado o para discutir una solución de procesamiento térmico personalizada adaptada a sus requisitos específicos de I+D.
SOLICITAR PRESUPUESTO
Nuestro equipo profesional le responderá dentro de un día hábil. ¡Siéntete libre de contactarnos!
Productos relacionados
Horno de Carga Inferior RTP de Procesamiento Térmico Rápido Controlado por Atmósfera 1100C Alto Rendimiento Tasa de Calentamiento 50C por Segundo
Maximice la eficiencia de I+D con este horno RTP de carga inferior de 1100C, que presenta un calentamiento ultrarrápido de 50C/s y control de atmósfera. Este sistema de alto rendimiento se integra con brazos robóticos para aplicaciones de catálisis de átomo único automatizada y recocido preciso de obleas de 6 pulgadas.
Horno de procesamiento térmico rápido (RTP) de 1100 °C con atmósfera controlada y carga inferior para recocido de obleas e investigación de catálisis
Este horno RTP de carga inferior de 1100 °C ofrece un calentamiento ultrarrápido de 50 °C/s para el recocido de obleas y la catálisis. Con control de atmósfera automatizado e integración robótica, garantiza una precisión de alto rendimiento para aplicaciones exigentes de I+D industrial y ciencia de materiales con una fiabilidad constante y un rendimiento inigualable.
Horno de procesamiento térmico rápido 950C para recubrimiento CSS de obleas de 12 pulgadas con soporte de sustrato giratorio
Este horno de procesamiento térmico rápido de precisión a 950°C cuenta con un soporte de sustrato giratorio para obleas de 12 pulgadas y calefacción IR de doble zona. Diseñado para recubrimiento de películas CSS avanzado y recocido de semiconductores, ofrece una deposición de película delgada uniforme bajo condiciones de alto vacío para la investigación industrial.
Horno de procesamiento térmico rápido (RTP) compacto con atmósfera controlada y tubo de cuarzo de 4 pulgadas de diámetro interior, 1100 °C
Mejore la investigación en semiconductores con este horno RTP compacto de atmósfera controlada. Con un tubo de cuarzo de 4 pulgadas y una capacidad de 1100 °C, ofrece un calentamiento de 50 °C/segundo para recocido de precisión, CVD y procesamiento de materiales de alto rendimiento.
Horno de prensado térmico ultrarrápido 2900C temperatura máxima 200K por segundo velocidad de calentamiento sistema de procesamiento rápido en atmósfera de vacío
Este horno de prensado térmico ultrarrápido de 2900°C logra velocidades de calentamiento de más de 200K/s para I+D avanzada. Con control de vacío de precisión y presión de peso muerto integrada, el sistema ofrece soluciones de alto rendimiento para la investigación en ciencia de materiales y aplicaciones de procesamiento térmico rápido.
Horno de tubo deslizante de alta temperatura de 1200 °C y 5 pulgadas para procesamiento térmico rápido (RTP) y recocido de obleas
Acelere su investigación de materiales con este horno de tubo deslizante de 1200 °C diseñado para procesamiento térmico rápido. Con un tubo de cuarzo de 5 pulgadas y controladores PID duales, ofrece tasas precisas de calentamiento y enfriamiento para aplicaciones avanzadas de semiconductores.
Horno de prensado de calentamiento ultrarrápido de alta temperatura, 2900 °C máx., sistema de procesamiento térmico rápido de 100 kgf
Diseñado para el procesamiento térmico rápido, este horno de prensado y calentamiento ultrarrápido de 2900 °C ofrece tasas de rampa de 180 °C/s y una presión de 100 kgf. Ideal para sinterización flash e I+D de materiales avanzados, este sistema de alto vacío garantiza la máxima precisión, una fiabilidad probada y un rendimiento industrial rentable.
Horno de mufla de carga inferior con tres zonas de calentamiento, 1600°C, 72L de volumen y cámara de procesamiento térmico rápido
Mejore el procesamiento térmico con este horno de carga inferior de alta precisión a 1600°C, tres zonas, cámara de 72L y carga mediante motor eléctrico. Diseñado para I+D en ciencia de materiales, este sistema ofrece una uniformidad de temperatura excepcional, enfriamiento rápido y control PLC avanzado para aplicaciones industriales exigentes.
Horno de procesamiento térmico rápido de 800 °C de alta temperatura con soporte de muestra giratorio para sublimación de espacio cercano e investigación de células solares de película delgada
Este avanzado horno CSS y RTP de 800 °C cuenta con calentadores halógenos duales y un soporte de sustrato giratorio para obleas de 5x5". Diseñado para el procesamiento térmico rápido de fotovoltaica de película delgada, ofrece un control preciso, alta uniformidad y un rendimiento de enfriamiento superior.
Horno de Tubo de Alta Temperatura 1500°C con Bridas Deslizantes y 50 mm DE para Procesamiento Térmico Rápido, Calentamiento y Enfriamiento Veloces
Logre procesamiento térmico rápido con este horno de tubo de 1500°C máximo que cuenta con bridas deslizantes manuales para calentamiento y enfriamiento acelerados. Diseñado para investigación en ciencia de materiales, este sistema de alta precisión ofrece un rendimiento de vacío excepcional y monitorización de doble controlador para aplicaciones de laboratorio exigentes.
Horno de tubo RTP deslizante de hasta 900 °C con calentamiento rápido por IR y tubo de cuarzo de 4 pulgadas de diámetro exterior
Maximice la eficiencia de I+D con este horno de tubo RTP deslizante de 900 °C, que cuenta con calentamiento rápido por infrarrojos, velocidades de rampa de 50 °C/s y enfriamiento automatizado para crecimiento de grafeno, síntesis de CNT y recocido avanzado de obleas semiconductoras en condiciones de vacío o atmosféricas.
Horno de calentamiento rápido controlado por atmósfera de 1500°C para ciencia de materiales y sinterización de polvos de baterías
Optimice la I+D de materiales con este horno de calentamiento rápido controlado por atmósfera de 1500°C. Con precisión de doble zona y ciclos térmicos rápidos, es ideal para la síntesis de cátodos de baterías y la sinterización industrial en entornos inertes o ricos en oxígeno para obtener resultados superiores.
Horno de tubo deslizante para procesamiento térmico rápido con tubo de cuarzo de 4 pulgadas de diámetro exterior y calentamiento por infrarrojos a 900 °C
Optimice la síntesis de materiales con este horno de tubo RTP deslizante de 900 °C máx. Diseñado para un calentamiento por infrarrojos rápido a 50 °C/s y enfriamiento automatizado, proporciona un control preciso para aplicaciones de investigación en grafeno, nanotubos de carbono y células solares de perovskita.
Horno de tubo deslizante de 1200 °C para procesamiento térmico rápido y crecimiento de grafeno por CVD con capacidad de 100 mm de diámetro exterior
Acelere su investigación con este horno de tubo deslizante de 1200 °C diseñado para procesamiento térmico rápido y aplicaciones de CVD. Cuenta con control PLC de alta precisión y un riel deslizante motorizado para ciclos de calentamiento y enfriamiento ultrarrápidos en laboratorios de ciencia de materiales avanzada e I+D industrial.
Horno de tubo deslizante automatizado para calentamiento y enfriamiento rápido, 2 pulgadas de diámetro exterior, 1100 °C máx.
Optimice la investigación de materiales con este horno de tubo deslizante automatizado de alto rendimiento. Con un calentamiento y enfriamiento ultrarrápido de 100 °C por minuto, este sistema de 1100 °C garantiza un procesamiento térmico preciso para semiconductores, nanotecnología y aplicaciones de I+D industrial que requieren ciclos térmicos rápidos.
Horno de mufla de carga inferior de alta temperatura para procesamiento térmico rápido 1700°C, capacidad de 40L
El horno de mufla de carga inferior profesional de 1700°C ofrece un calentamiento y enfriamiento rápidos para la investigación avanzada de materiales. Con carga automatizada y aislamiento de alta pureza, este sistema garantiza un procesamiento térmico de precisión en laboratorios industriales e instalaciones de investigación exigentes a nivel mundial. Calidad confiable.
Horno vertical de atmósfera controlada de alta temperatura con carga inferior automática y capacidad de 1700°C para investigación avanzada de materiales
Horno vertical de atmósfera avanzada de 1700°C con carga inferior motorizada automática y capacidad de vacío. Diseñado para sinterización y recocido de precisión, este sistema de alta pureza incluye cámaras refrigeradas por agua y control PID Eurotherm para una exigente investigación y desarrollo industrial.
Horno tubular de procesamiento térmico rápido (RTP) de calentamiento IR de dos zonas con tubo de cuarzo de 4 pulgadas de diámetro interior y soportes de muestra deslizantes
Horno tubular RTP de calentamiento IR de dos zonas de alto rendimiento que cuenta con un tubo de cuarzo de 4 pulgadas de diámetro interior y soportes de muestra deslizantes duales. Alcance velocidades de calentamiento de 50°C/s para síntesis avanzada de materiales 2D, investigación de superconductores y procesos de deposición de vapor de alta velocidad y precisión.
Horno automático de carga inferior con atmósfera controlada de 1200°C y tubo de cuarzo de 6 pulgadas
Horno automático de carga inferior con atmósfera controlada de 1200°C, avanzado, que cuenta con un tubo de cuarzo de seis pulgadas y calentamiento de doble zona para aplicaciones de investigación de materiales de alto rendimiento y procesamiento térmico industrial que requieren precisión constante y capacidades de integración de automatización completa en laboratorios de I+D.
Horno Compacto de Carga Inferior a Alta Temperatura 1700°C Sistema de Calentamiento y Enfriamiento Rápido Equipo de Ciclado Térmico para Pequeñas Muestras
Este horno compacto de carga inferior de 1700°C cuenta con un elevador motorizado para procesamiento rápido de muestras, control PID preciso y avanzados elementos calefactores de MoSi2, lo que lo convierte en la solución ideal para investigación de materiales a alta temperatura y rigurosas pruebas de impacto por ciclado térmico para aplicaciones de laboratorio industrial.